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EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING METHOD meetings

Patent code P100000273
File No. E-063
Posted date Jul 10, 2009
Application number P2009-141221
Publication number P2010-287479A
Patent number P5574470
Date of filing Jun 12, 2009
Date of publication of application Dec 24, 2010
Date of registration Jul 11, 2014
Inventor
  • (In Japanese)窪寺 昌一
  • (In Japanese)加来 昌典
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人 宮崎大学
Title EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING METHOD meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To simply control plasma temperature and density to thereby increase luminous efficiency.
SOLUTION: An extreme ultraviolet light source (1) includes: a laser light source (6) for irradiating a laser beam (6a); and a target material (T) that is excited by being irradiated with the laser light (6a) from the laser light source (6) to generate plasma and irradiate extreme ultraviolet light, is a multicomponent target material, and includes at least a first element and a second element which includes a spectrum component in which spectrum strength of spectrum distribution of the first element is strongest in a region of wavelength of 200 nm or less, and which also has a spectrum distribution with a full width at half maximum wider than the full width at half maximum of a waveform of spectrum distribution in the strongest spectrum component.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)



従来、単元素の金属ターゲットを使用して、レーザー生成プラズマを生成し、そこから放射される極端紫外光を利用する研究が盛んである。例えば、現在進行中の研究・開発である極端紫外光リソグラフィー光源では、スズ(錫:Sn)を金属ターゲットとして、波長13.5nmの極端紫外光が得られている。

このような極端紫外光源に関して、下記の特許文献1、2が知られている。





特許文献1としての特開平5-347195号公報には、複数種類の物質から構成されたターゲット層(3)にレーザーを照射して、プラズマ化することにより、極端紫外光を含むX線を発生させる技術が記載されている。特許文献1記載の技術では、ターゲット層(3)として、特許文献1の図2~図4に示されるようにスペクトル分布において異なる波長(スペクトル成分)でピークを持つ3つの元素(α、β、γ)が含まれたターゲット層(3)を使用することで、図5に示されるようにスペクトル分布が合成されて、広範な波長域においてほぼ均一な強度を有するX線が得られている。





特許文献2としての特開平10-208998号公報には、レーザープラズマX線源のターゲットとして、1種類以上の金属を含む複数の元素からなる材料を使用することで、1種類の金属単体の場合と比較して、融点を上昇させ、特定の波長付近でのスペクトルの強度を低下させずに飛散粒子等を低減させる技術が記載されている。

Field of industrial application (In Japanese)



本発明は、波長が200nm程度以下の紫外光である極端紫外光(EUV:Extreme Ultraviolet)を照射する極端紫外光源および極端紫外光発生方法に関し、特に、固体の金属ターゲットを使用する極端紫外光源および極端紫外光発生方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
レーザー光を照射するレーザー光源と、
前記レーザー光源からのレーザー光が照射されて励起され、プラズマを生成して極端紫外光を放射するターゲット材であって、第1の元素と、波長200nm以下の領域において前記第1の元素のスペクトル分布のスペクトル強度が最も強いスペクトル成分を含み且つ最も強いスペクトル成分におけるスペクトル分布の波形の半値全幅よりも広い半値全幅のスペクトル分布を有する第2の元素と、を少なくとも含む多元系の前記ターゲット材と、
を備え、
前記ターゲット材は、タングステンカーバイド、銅・タングステン合金、リン青銅、ジュラルミン、ハステロイ(登録商標)C-276およびアドバンスのいずれかにより構成された
ことを特徴とする極端紫外光源。

【請求項2】
 
第1の元素と、波長200nm以下の領域において前記第1の元素のスペクトル分布のスペクトル強度が最も強いスペクトル成分を含み且つ最も強いスペクトル成分におけるスペクトル分布の波形の半値全幅よりも広い半値全幅のスペクトル分布を有する第2の元素と、を少なくとも含む多元系の前記ターゲット材に対して、レーザー光を照射して励起し、プラズマを生成して、極端紫外光を放射することを特徴とする極端紫外光発生方法であって、
前記ターゲット材は、タングステンカーバイド、銅・タングステン合金、リン青銅、ジュラルミン、ハステロイ(登録商標)C-276およびアドバンス、
のいずれかにより構成されたことを特徴とする極端紫外光発生方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2009141221thum.jpg
State of application right Registered


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