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CATALYST AND REACTION METHOD commons

Patent code P100000624
File No. E076P135
Posted date Apr 9, 2010
Application number P2010-053299
Publication number P2011-183343A
Patent number P5116048
Date of filing Mar 10, 2010
Date of publication of application Sep 22, 2011
Date of registration Oct 26, 2012
Inventor
  • (In Japanese)小林 修
  • (In Japanese)山下 恭弘
  • (In Japanese)坪郷 哲
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title CATALYST AND REACTION METHOD commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide such a technique that a Friedel-Crafts type reaction of enones to indole advances at high enantio selectivity.
SOLUTION: In a method in which indole and enones are made to react, a catalyst is used which consists of an alkaline earth metal amide and an optically active ligands having a hydroxy group.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


Ca,Sr,Ba等のアルカリ土類金属は地球上に広く存在するユビキタス元素である。これ等の元素の積極的な利用は我が国の元素戦略上重要である。本発明者らは、これまで、カルシウムアルコキシドと光学活性ビスオキサゾリン配位子より調製されたアニオン性錯体、ストロンチウムアルコキシドと光学活性キラルビススルホンアミド配位子から調製されたアニオン性錯体、カルシウムアルコキシドと光学活性ビスオキサゾリン配位子から調整された配位性錯体が、有効なブレンステッド塩基触媒として機能し、α-アミノエステル誘導体とα,β-不飽和カルボニル化合物とによる1,4付加反応や[3+2]付加環化反応、マロン酸エステルとα,β-不飽和カルボニル化合物との1,4付加反応やMannich反応、アズラクトンとα,β-不飽和エステルとの1,4付加反応が、高エナンチオ選択的に進行することを見出している。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有するキラル配位子とによる触媒に関する。例えば、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有するキラル配位子とを触媒として用いたインドールとカルコンとの反応(不斉反応)に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
インドールとエノンとの反応に用いられる触媒であって、
前記触媒は、
アルカリ土類金属アミドと、水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなり、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[II]で表される化合物である
ことを特徴とする触媒。
一般式[II]


[一般式[II]中、R2,R3はH又は炭化水素基である。R2,R3の中の少なくとも一方はHでは無い。R4,R5は炭化水素基である。全てのR4,R5は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項2】
 
インドールとエノンとの反応に用いられる触媒であって、
前記触媒は、
アルカリ土類金属アミドと、水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなり、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[III]で表される化合物である
ことを特徴とする触媒。
一般式[III]



[一般式[III]中、R6は炭化水素基またはシリル基である。全てのR6は、同一でも、異なっていても良い。R7,R8は炭化水素基またはアルコキシ基である。全てのR7,R8は、同一でも、異なっていても良い。R7とR8とは、環が形成されるものでも良い。]

【請求項3】
 
アルカリ土類金属アミドが下記一般式[I]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。
一般式[I]
MN(R12
[一般式[I]中、Mはアルカリ土類金属、R1はH、炭化水素基、又は置換基を有するシリル基である。全てのR1は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項4】
 
アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子との割合が、(アルカリ土類金属アミド):(水酸基を有する光学活性配位子)=1:3~3:1である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。

【請求項5】
 
インドールは下記一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の触媒。
一般式[IV]


[一般式[IV]中、R9,R10は、H,X(ハロゲン)、炭化水素基、ニトロ基、アルコキシ基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基である。置換基としてのR10は1個~4個の何れかである。全てのR10は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項6】
 
エノンは下記一般式[V]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項1の触媒。
一般式[V]


[一般式[V]中、R11,R14は、炭化水素基である。R12,R13は、H又は炭化水素基である。]

【請求項7】
 
インドールとエノンとを反応させる方法であって、
前記反応には、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなる触媒が用いられ、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[II]で表される化合物である
ことを特徴とする反応方法。
一般式[II]


[一般式[II]中、R2,R3はH又は炭化水素基である。R2,R3の中の少なくとも一方はHでは無い。R4,R5は炭化水素基である。全てのR4,R5は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項8】
 
インドールとエノンとを反応させる方法であって、
前記反応には、アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子とで構成されてなる触媒が用いられ、
前記水酸基を有する光学活性配位子が下記一般式[III]で表される化合物である
ことを特徴とする反応方法。
一般式[III]


[一般式[III]中、R6は炭化水素基またはシリル基である。全てのR6は、同一でも、異なっていても良い。R7,R8は炭化水素基またはアルコキシ基である。全てのR7,R8は、同一でも、異なっていても良い。R7とR8とは、環が形成されるものでも良い。]

【請求項9】
 
アルカリ土類金属アミドが下記一般式[I]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
一般式[I]
MN(R12
[一般式[I]中、Mはアルカリ土類金属、R1はH、炭化水素基、又は置換基を有するシリル基である。全てのR1は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項10】
 
インドールは下記一般式[IV]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
一般式[IV]


[一般式[IV]中、R9,R10は、H,X(ハロゲン)、炭化水素基、ニトロ基、アルコキシ基、アシル基、又はアルコキシカルボニル基である。置換基としてのR10は1個~4個の何れかである。全てのR10は、同一でも、異なっていても良い。]

【請求項11】
 
エノンは下記一般式[V]で表される化合物である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
一般式[V]


[一般式[V]中、R11,R14は、炭化水素基である。R12,R13は、H又は炭化水素基である。]

【請求項12】
 
アルカリ土類金属アミドと水酸基を有する光学活性配位子との割合が、(アルカリ土類金属アミド):(水酸基を有する光学活性配位子)=1:3~3:1である
ことを特徴とする請求項7又は請求項8の反応方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) ERATO KOBAYASHI Highly Functionalized Reaction Environments AREA
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