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OPTICALLY ACTIVE DICARBOXYLIC ACID DERIVATIVE commons

Patent code P100000625
File No. E076P137
Posted date Apr 9, 2010
Application number P2010-053300
Publication number P2011-184393A
Patent number P5329462
Date of filing Mar 10, 2010
Date of publication of application Sep 22, 2011
Date of registration Aug 2, 2013
Inventor
  • (In Japanese)小林 修
  • (In Japanese)山下 恭弘
  • (In Japanese)ポワソン トーマス
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title OPTICALLY ACTIVE DICARBOXYLIC ACID DERIVATIVE commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for synthesizing an optically active dicarboxylic acid derivative.
SOLUTION: The method for synthesizing an optically active dicarboxylic acid derivative comprises allowing an α, β-unsaturated carbonyl compound and a compound formable of an enolate to react with each other in the presence of a catalyst constituted of a pyridine derivative having 4-phenyloxazolin-2-yl groups on the 2-position and the 6-position thereof respectively and an alkaline earth metal salt such as calcium ethoxide, whereby an optically active dicarboxylic acid derivative such as a 2-alkylpentane dicarboxylic acid derivative can efficiently be synthesized at a high yield with high enantioselectivity.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


光学活性な2-アルキルペンタンジカルボン酸誘導体は、光学活性中間体として有用な化合物である。例えば、医薬品などのファインケミカルを合成する際の光学活性中間体として特に有用である。前記ジカルボン酸誘導体の合成方法として、特許文献1,2,3や非特許文献1,2,3,4に記載が有る。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、例えば2-アルキルペンタンジカルボン酸誘導体と言った光学活性ジカルボン酸誘導体に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
下記一般式[III]で表されるα,β-不飽和カルボニル化合物と、
ジカルボン酸エステル及びジカルボン酸の群の中から選ばれるエノラート生成化合物とを、
下記一般式[I]で表される化合物と下記一般式[II]で表される化合物から構成される化合物の存在下で反応させる
ことを特徴とする光学活性ジカルボン酸誘導体の合成方法。
一般式[I]



[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはOである。]
一般式[II]
MX2
[一般式[II]中、MはCa,Sr又はBaである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]


[一般式[III]中、R8,R9,R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、置換基を有するO,置換基を有するN、又は置換基を有するSである。R11は、炭化水素基(置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、置換基を有するO,置換基を有するN、又は置換基を有するSである。]

【請求項2】
 
エノラート生成化合物がマロン酸エステル又はマロン酸である
ことを特徴とする請求項1の光学活性ジカルボン酸誘導体の合成方法。

【請求項3】
 
一般式[I]で表される化合物と一般式[II]で表される化合物から構成される化合物が錯体である
ことを特徴とする請求項1又は請求項2の光学活性ジカルボン酸誘導体の合成方法。

【請求項4】
 
一般式[I]で表される化合物が光学活性三座配位子である
ことを特徴とする請求項1~請求項3いずれかの光学活性ジカルボン酸誘導体の合成方法。

【請求項5】
 
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR32(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項1~請求項4いずれかの光学活性ジカルボン酸誘導体の合成方法。

【請求項6】
 
光学活性ジカルボン酸誘導体が光学活性2-アルキルペンタンジカルボン酸誘導体である
ことを特徴とする請求項1~請求項5いずれかの光学活性ジカルボン酸誘導体の合成方法。

【請求項7】
 
請求項1~請求項6いずれかの光学活性ジカルボン酸誘導体の合成方法における工程と、
前記工程で得られた光学活性ジカルボン酸誘導体に加水分解を施して光学活性ジカルボン酸を製造する
ことを特徴とする光学活性ジカルボン酸の製造方法。

【請求項8】
 
下記一般式[III]で表されるα,β-不飽和カルボニル化合物と、ジカルボン酸エステル及びジカルボン酸の群の中から選ばれるエノラート生成化合物とを反応させて光学活性ジカルボン酸誘導体の合成に用いられる触媒であって、
下記一般式[I]で表される化合物と、
下記一般式[II]で表される化合物
とで構成される
ことを特徴とする光学活性ジカルボン酸誘導体合成用触媒。
一般式[I]


[一般式[I]中、R1,R2,R3は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はアラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)である。R1とR2とR3とは、全てが同一でも、異なるものでも良い。R4は、H,F,Cl,Br,I、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、O,S又はN(O,S,Nは、水素原子または置換基を有する。)である。XはOである。]
一般式[II]
MX2
[一般式[II]中、MはCa,Sr又はBaである。Xは陰イオンである。]
一般式[III]


[一般式[III]中、R8,R9,R10は、H、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基(アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基は、置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、置換基を有するO,置換基を有するN、又は置換基を有するSである。R11は、炭化水素基(置換基を有する場合と、置換基を有さない場合とが有る。)、置換基を有するO,置換基を有するN、又は置換基を有するSである。]

【請求項9】
 
エノラート生成化合物がマロン酸エステル又はマロン酸である
ことを特徴とする請求項8の光学活性ジカルボン酸誘導体合成用触媒。

【請求項10】
 
一般式[I]で表される化合物と一般式[II]で表される化合物から構成される化合物が錯体である
ことを特徴とする請求項8又は請求項9の光学活性ジカルボン酸誘導体合成用触媒。

【請求項11】
 
一般式[I]で表される化合物が光学活性三座配位子である
ことを特徴とする請求項8~請求項10いずれかの光学活性ジカルボン酸誘導体合成用触媒。

【請求項12】
 
一般式[II]のXがClO4,BF4,PF6,NO3,F,Cl,Br,I,SO4R,OCOR,OR,NR2又はN(SiR32(R=炭化水素基)である
ことを特徴とする請求項8~請求項11いずれかの光学活性ジカルボン酸誘導体合成用触媒。

【請求項13】
 
光学活性ジカルボン酸誘導体が光学活性2-アルキルペンタンジカルボン酸誘導体である
ことを特徴とする請求項8~請求項12いずれかの光学活性ジカルボン酸誘導体合成用触媒。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) ERATO KOBAYASHI Highly Functionalized Reaction Environments AREA
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