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GAS SEPARATION MEMBRANE

Patent code P110001468
File No. 2009-P09
Posted date Jan 20, 2011
Application number P2009-149894
Publication number P2009-208079A
Patent number P4474520
Date of filing Jun 24, 2009
Date of publication of application Sep 17, 2009
Date of registration Mar 19, 2010
Inventor
  • (In Japanese)永井 一清
  • (In Japanese)森里 敦
  • (In Japanese)野崎 貴司
Applicant
  • (In Japanese)学校法人明治大学
Title GAS SEPARATION MEMBRANE
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organopolysiloxane cross-linked membrane which is thin and excellent in oxygen-nitrogen separating ability, and also provide a method of manufacturing the organopolysiloxane cross-linked membrane which easily manufactures the organopolysiloxane cross-linked membrane which is thin and excellent in oxygen-nitrogen separating ability.
SOLUTION: The organopolysiloxane cross-linked membrane is placed on a porous support membrane which average hole diameter is more than 10 nm and less than 250 nm. The organopolysiloxane cross-linked membrane is a membrane which is formed by reacting an organopolysiloxane having two or more hydrosilyl groups with an organopolysiloxane having two or more vinyl groups with a hydrosilylation catalyst. The gas separation membrane is less than 1 μm in thickness and its oxygen-nitrogen separating factor is more than 1.6 at an ordinary temperature.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


一般に気体分離膜は、多孔質支持体膜上に気体分離機能層を形成させて調製する。この際に、分離機能層を薄くして気体の透過速度(単位時間あたりの気体処理量)を多くする必要がある。しかし現在、気体分離膜として使用されているオルガノポリシロキサンは、1マイクロメーター未満の薄膜化が困難である(特許文献1及び2等)。



【特許文献1】
特公平6-77673号公報
【特許文献2】
特開平6-269649号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、気体分離膜として好適に使用することができるオルガノポリシロキサン架橋膜及びその製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
多孔質支持体膜上にオルガノポリシロキサン架橋膜が設けられ、
前記多孔質支持体膜の平均孔径が10nm以上250nm以下であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜が、ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンとをヒドロシリル化触媒により反応させて形成した膜であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが1μm以下であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜の常温における酸素/窒素分離係数が1.6以上であり、
前記オルガノポリシロキサン架橋膜が、式(I)で示される繰り返し単位を含有しないことを特徴とする
気体分離膜。
【化1】
 


(式中、Rはシクロアルキル基を表し、m及びnは各々独立に1以上の整数を表す。)

【請求項2】
 
ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンの重量平均分子量が1,500~8,000である請求項1に記載の気体分離膜。

【請求項3】
 
ビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンの重量平均分子量が15,000~250,000である請求項1又は2に記載の気体分離膜。

【請求項4】
 
ヒドロシリル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンがヒドロシリル基を2個以上有するジメチルポリシロキサンであり、ビニル基を2個以上有するオルガノポリシロキサンがビニル基を2個以上有するジメチルポリシロキサンである請求項1~3いずれか1つに記載の気体分離膜。

【請求項5】
 
前記オルガノポリシロキサン架橋膜の厚さが0.01μm以上0.7μm以下である請求項1~4いずれか1つに記載の気体分離膜。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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