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PHOTODEGRADABLE BLOCK COPOLYMER

Patent code P110001479
Posted date Jan 24, 2011
Application number P2008-227149
Publication number P2010-059322A
Patent number P5435536
Date of filing Sep 4, 2008
Date of publication of application Mar 18, 2010
Date of registration Dec 20, 2013
Inventor
  • (In Japanese)山口 和夫
  • (In Japanese)伊藤 倫子
Applicant
  • (In Japanese)学校法人神奈川大学
Title PHOTODEGRADABLE BLOCK COPOLYMER
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new photodegradable block copolymer comprising hydrophilic polyethylene oxide chain (PEO) and a hydrophobic polypropylene oxide chain (PPO), wherein a photodegradable group is introdued between the PEO and the PPO of the amphipathic block copolymer (as a triblock copolymer, PEO-PPO-PEO or PPO-PEO-PPO) to easily break the coupling between the blocks by irradation with light.
SOLUTION: The photodegradable group is provided between the adjoining polyethylene oxide and polypropylene oxide in the amphipathic triblock copolymer formed by inserting the polypropylene oxide between the polyethylene oxides or the polyethylene oxide between the polypropylene oxides.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


親水性のブロックと疎水性のブロックから構成される両親媒性ブロックコポリマーは、構成成分であるポリマーの種類や鎖長に応じて様々な性質を有する。例えば、水溶液中では、外殻に親水性ブロックが配向し、疎水性ブロックが内部に存在するように分子が集合したミセル構造や二重膜となったポリマーソーム構造を形成することが知られている。さらに、その特徴を利用して様々な応用に用いられている。



下記の親水性のポリエチレンオキシド鎖(PEO)(A)で疎水性のポリプロピレンオキシド鎖(PPO)(B)を挿み込んだABA型や、疎水性のポリプロピレンオキシド鎖(PPO)(B)で親水性のポリエチレンオキシド鎖(PEO)(A)を挿み込んだBAB型の両親媒性トリブロックコポリマーがBASF社より市販されている(非特許文献1)。



【化1】





両親媒性トリブロックコポリマー:
PEO-PPO-PEO , PPO-PEO-PPO



このトリブロックコポリマーは、ポリプロピレンオキシドの分子量に対するポリエチレンオキシドの含有量において様々な種類が存在し、その形状(液体、粘体、固体)や性質も異なる。また、その種類に応じて集合体においても様々な形状をとることが報告されている(非特許文献2)。



特に、上述した両親媒性トリブロックコポリマーは、水溶液中で自己集合してポリマーミセルを形成することから、例えば、ドラッグデリバリーシステム(DDS)の研究に用いられている(非特許文献3)。ミセルの内側が疎水的で外側が親水的な環境となっているため、ミセル内部に疎水的な薬剤を保持させることができ、薬剤などのミセルキャリアーとして有用である。



また、ポリエチレンオキシドの細胞非接着性を利用した細胞接着阻害コート剤としての研究も行われている(非特許文献4)。細胞培養容器として、一般にポリスチレン製の容器が使われている。ポリプロピレンオキシドは疎水性相互作用によりポリスチレン等と物理吸着して、ポリエチレンオキシドが最表面に存在するので、細胞の接着を阻害できる。



この両親媒性トリブックコポリマーは非イオン界面活性剤であり、生体毒性が極めて低いため、その用途は多岐にわたり、工業、医薬、香料、化粧品工業など様々な分野で、防腐剤、洗浄剤、添加剤などに用いられる有用な材料である。



【非特許文献1】
”PLUEONIC and PRUEONIC R Block Copolmer Surfactants" [online],1998-2007,BASF,[平成20年8月15日検索],インターネット(http://www.basf.com/performancechemical/bcperfabout.html)
【非特許文献2】
Xuemei Liang, Guangzhao Mao, K.Y. Simon Ng, Journal of Colloid and Interface Science, 2005, 285, 360-372
【非特許文献3】
Keun Sang Oh, Ree Sun Kim, Jinho Lee, Dongmin Kim, Sun Hang Cho, Soon Hong Yuk, Journal of Applied Polymer Science, 2008, 108, 3239-3244
【非特許文献4】
Valerie A. Liu, William E. Jastromb, Sangeeta N. Bhatia, Journal of Biomedical Materials Research, 2002, 60, 126-134
【非特許文献5】
Muhammad N. Yousaf, Benjamin T. Houseman, Milan Mrksich, Proceedings of the National Academy of Sciences of the United States of America, 2001, 98, 5992-5996
【非特許文献6】
Kevin K. Parker, Amy L. Brock, Cliff Brangwynne, Robert J. Mannix, Ning Wang, Emanuele Ostuni, Nicholas A. Geisse, Josephine C. Adams, George M. Whitesides, Donald E. Ingber, The FASEB Journal, 2002, 16, 1195-1204

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、親水性のブロックと疎水性のブロックから構成される両親媒性ブロックコポリマーにおいて、ブロック間を光照射により容易に分解することが可能な新規な光分解性ブロックコポリマーに関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
下記一般式(1)で表されることを特徴とする光分解性ブロックコポリマー。



・・・(1)
ここで、nはエチレンオキシドの繰り返し単位数、m-1はプロピレンオキシドの繰り返し単位数である

【請求項2】
 
下記一般式(2)で表されることを特徴とする光分解性ブロックコポリマー。



・・・(2)
ここで、nはエチレンオキシドの繰り返し単位数、m-1はプロピレンオキシドの繰り返し単位数である。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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