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CARBIDE-OCCLUDING CARBON NANOCAPSULE AND ITS PRODUCING METHOD commons

Patent code P110001852
Posted date Mar 18, 2011
Application number P2006-282341
Publication number P2008-100852A
Patent number P5145551
Date of filing Oct 17, 2006
Date of publication of application May 1, 2008
Date of registration Dec 7, 2012
Inventor
  • (In Japanese)福田 功一郎
  • (In Japanese)久村 美由紀
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人 名古屋工業大学
Title CARBIDE-OCCLUDING CARBON NANOCAPSULE AND ITS PRODUCING METHOD commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a carbide-occluding carbon nanocapsule and a method for producing the carbide-occluding carbon nanocapsule easily and efficiently.
SOLUTION: The synthesis of a carbide to be occluded and the formation of a carbon nanocapsule are performed simultaneously by using carbon constituting the carbide being a starting material as a carbon supply source so that the carbon for forming the carbon nanocapsule is supplied uniformly onto the periphery of a carbide particle to be occluded.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


種々の物質を内包するカーボンナノカプセルは近年注目されている材料で,たとえば電界放出源や(特許文献1),核燃料または放射性廃棄物をカーボンナノカプセルで内包することで安全性を高めるなど(特許文献2),様々な分野への応用が期待されている.しかし工業規模の製造方法はまだ十分に確立されていないのが現状である.

従来、金属内包あるいは炭化物内包のカーボンナノカプセルの製造において,カーボンナノカプセルの炭素供給源としてグラファイト等の炭素材料を用いる方法が広く知られている.
具体的には,特許文献3や非特許文献1で内包される物質とグラファイトから成る電極,あるいは内包される物質の前駆体とグラファイトから成る電極間にアーク放電などを発生させ,陰極堆積物から金属あるいは炭化物内包カーボンナノカプセルを収集する方法が開示されている。
一方,特許文献4,5および非特許文献2で有機物等の炭化可能な物質を炭素供給源に用いる方法も開示されている.
【特許文献1】
特開2000-268707
【特許文献2】
特開2000-39489
【特許文献3】
特開2004-67499
【特許文献4】
特開平8-133716
【特許文献5】
特開2005-255448
【非特許文献1】
Journal of Applied Physics, Vol.76, No.8, 4533 (1994)
【非特許文献2】
Journal of Materials Chemistry, Vol.8, No.6, 1323 (1998)

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、炭化物内包カーボンナノカプセル及びその製造方法に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
炭化物内包カーボンナノカプセルの製造において、出発原料の組成が内包される炭化物およびカーボンナノカプセルの両方を生成する化学組成であり、内包される炭化物がZr2[Al,Si]4C5である炭化物内包カーボンナノカプセルの製造方法

【請求項2】
 
前記出発原料に炭化ジルコニウム、炭化アルミニウムおよび炭化ケイ素を用いる請求項1に記載の炭化物内包カーボンナノカプセルの製造方法
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2006282341thum.jpg
State of application right Registered
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