Top > Search of Japanese Patents > METHOD FOR PRODUCING ALLYLSILANES

METHOD FOR PRODUCING ALLYLSILANES

Patent code P110002495
File No. S2010-1102-N0
Posted date Apr 27, 2011
Application number P2011-015146
Publication number P2012-153663A
Patent number P5627483
Date of filing Jan 27, 2011
Date of publication of application Aug 16, 2012
Date of registration Oct 10, 2014
Inventor
  • (In Japanese)大洞 康嗣
  • (In Japanese)中井 俊志
Applicant
  • Kansai University
Title METHOD FOR PRODUCING ALLYLSILANES
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an allylsilane from a simple alkene and a disilane.
SOLUTION: The method for producing an allylsilane in high regioselectivity includes reacting a 1-alkene being a simple alkene with a disilane in the presence of palladium trifluoroacetate catalyst in an oxygen atmosphere.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)



近年医薬等を指向した高付加価値の精密化学品の合成に関するファインケミカルズに対する関心が益々高まっている。特に、安価かつ入手可能な化学産業資源(フィードストック)を原料として用いて、有機合成上有用なビルディングブロックを簡便に得る方法が求められている。





アリルシラン類は、様々な化学変換が可能な官能基であるアリル基とシリル基とを有する分子であり、そのため天然物化合物の合成をはじめとした有機合成反応に利用されている。例えば、ルイス酸の存在のもと、アリルシラン類を、ケトン、アセタール等の種々の求電子剤と反応させることにより、位置選択的な炭素-炭素結合生成反応が生起する細見-櫻井反応が知られている(非特許文献1を参照)。従って、アリルシラン類は、炭素骨格上にアリル部位を導入する有機合成上有用なビルディングブロックである。





これまでに、種々のアリルシランの製造方法が報告されている。しかしながら、従来の製法では、例えばハロゲン化アリルをマグネシウムまたはリチウムなどの化学両論量の金属試薬と反応させ、続いて得られる有機金属アリル化合物をハロシランと反応させてアリルシラン類を製造する方法であり、そのため多量の金属塩が副生するという問題点があった(非特許文献2および特許文献1を参照)。また、別製法として、シリル供給源として天然物の石油などに含まれるジシランを用いた製造法も報告されているが、アリル供給源がアリル酢酸エステルに代表されるエステル基やハロゲンなどの電子吸引性で反応性の高い脱離基を有するアリル化合物に制限されており(非特許文献3を参照)、別途それらアリル化合物を調製する必要があった。よって、アリル供給源として単純アルケンを用いたアリルシラン類の製法が求められていた。

【化1】








さらに、パラジウム触媒を用いたこれまでの反応では、ゼロ価のパラジウム種(Pd(0))と活性な二価のパラジウム種(Pd(II))との間のリサイクルに必要な酸化剤として、ヘテロポリ酸などの固体酸を要していた(非特許文献4を参照)。

Field of industrial application (In Japanese)



本願発明は、アルケンとジシランからのアリルシランの新規な製造方法に関する。具体的には、単純アルケンである1-アルケンをアリル化剤として用いて、該1-アルケンとジシランから、トリフルオロ酢酸パラジウム触媒の存在下、高い位置選択性でアリルシラン類を得る、新規な製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
式(I):
【化1】
 


(式中、
R1は、無置換または置換のアルキル基、無置換または置換のシクロアルキル基、無置換または置換の飽和へテロシクロアルキル基、無置換または置換のアルケニル基、無置換または置換のアリール基、および無置換または置換のヘテロアリール基からなる群から選ばれ;そして、
nは、1~15の整数である)
で表される1-アルケン、および
式(II):
【化2】
 


(式中、
R2は、無置換のアルキル基または無置換のアリール基からなる群から選ばれる)
で表されるジシランを、トリフルオロ酢酸パラジウム(Pd(OC(=O)CF3)2)触媒の存在下、酸素雰囲気下で反応させることによる、
式(III):
【化3】
 


(式中、R1、R2およびnは前掲のとおりである)
で表されるアリルシラン類の製造方法。

【請求項2】
 
R1がn-ヘプチルであって、nが1である、請求項1記載の製造方法。

【請求項3】
 
R2がメチルである、請求項1または2記載の製造方法。

【請求項4】
 
式(III)-Aの化合物と式(III)-Bの化合物の生成比率が、90:10以上である、請求項1乃至3のいずれか1項記載の製造方法。

【請求項5】
 
触媒量のさらなる酸化剤の存在下で行う、請求項1乃至4のいずれか1項記載の製造方法。

【請求項6】
 
前記さらなる酸化剤がモリブドバナドリン酸塩である、請求項5記載の製造方法。

【請求項7】
 
さらに、触媒量の、ケトン、ホスフィンおよびスルホキシドからなる群から選ばれる配位子性化合物の存在下で行う、請求項1乃至6のいずれか1項記載の製造方法。

【請求項8】
 
前記配位子性化合物が、アセチルアセトンおよびジベンジリデンアセトンからなる群から選ばれる化合物である、請求項7記載の製造方法。

【請求項9】
 
式(I)で表される1-アルケンの配合量が、式(II)で表されるジシランの配合量基準で5~100モル%当量である、請求項1乃至8のいずれか1項記載の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
(In Japanese)ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、下記までご連絡ください


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close