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METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYERED FILM FOR FRESNEL ZONE PLATE

Patent code P110002814
File No. RS801P01
Posted date Jun 8, 2011
Application number P2000-394583
Publication number P2002-196122A
Patent number P4224594
Date of filing Dec 26, 2000
Date of publication of application Jul 10, 2002
Date of registration Dec 5, 2008
Inventor
  • (In Japanese)田村 繁治
  • (In Japanese)安本 正人
  • (In Japanese)上條 長生
  • (In Japanese)鈴木 芳生
  • (In Japanese)淡路 晃弘
Applicant
  • (In Japanese)独立行政法人産業技術総合研究所
  • (In Japanese)公益財団法人高輝度光科学研究センター
Title METHOD FOR MANUFACTURING MULTILAYERED FILM FOR FRESNEL ZONE PLATE
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing and a device for manufacturing a multilayered film for a Fresnel zone plate, having little disturbance on the interface, for developing a Fresnel zone plate of high resolution.

SOLUTION: In the method for manufacturing the multilayered film for a Fresnel zone plate, a multilayered thin film is formed on a thin line substrate through vapor deposition, by using two or more vapor deposition sources. The vapor deposition chamber is provided with a slit between the vapor deposition sources and the thin line substrate, to decrease the vapor deposition component in oblique directions and the wraparound vapor deposition component, so that the vapor deposition component passing through the slit is made to deposit on the thin line substrate or on thin films which have already been deposited.

Outline of related art and contending technology (In Japanese)
フレネルゾーンプレートは、透明体と不透明体とを交互に配した多数の同心円輪群を有するレンズであって、例えば、X線集光レンズとしてX線マイクロビーム分析などに用いられている。近年、半導体の微小回路素子の分析・評価、微小単結晶や微小多結晶でしか得られない新物質の分析・評価など微小領域の測定方法の開発が望まれている。この開発にあたっては、硬X線のマイクロビーム化の開発が必須となっている。
【0003】
これを実現するために、空間分解能、集光効率などに優れた集光素子を開発することが強く求められている。
Field of industrial application (In Japanese)
本発明は、フレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法および製造装置に係る。本発明は、特に、X線集光レンズとして好適なフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法および製造装置に係る。
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  2以上の蒸着源を用いて蒸着を行うことによって細線状基板上に多層薄膜を形成するフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法であって、槽内において、蒸着源と細線状基板との間に斜入射蒸着成分および回り込み蒸着成分の飛来を軽減することを目的としたスリットを設け、スリットを通過した蒸着成分を細線状基板または既に蒸着させた薄膜上に蒸着させることを特徴とするフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法であって、細線状基板の直径は20~100μmであり、スリットの幅は2~10mmであり、蒸着源からスリットまでの距離とスリットから細線状基板までの距離との比が、1:0.1~1:1である方法
【請求項2】
 更に、槽内に膜厚モニターを設けて膜厚を制御することを特徴とする請求項1に記載のフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法。
【請求項3】
 更に、それぞれの蒸着源と細線状基板との間にシャッターを設けて、使用していない蒸着源のシャッターを閉じておくことを特徴とする請求項1または2に記載のフレネルゾーンプレート用多層膜の製造方法。
【請求項4】
 細線状基板に蒸着法を用いて多層薄膜を形成するフレネルゾーンプレート用多層膜の製造装置であって、槽内に2以上の蒸着源および細線状基板を設置し、該蒸着源と該細線状基板との間に、斜入射蒸着成分および回り込み蒸着成分の飛来を軽減することを目的としたスリット、細線状基板を回転させるための手段、ならびにスリットを回転させるための手段を設けたことを特徴とするフレネルゾーンプレート用多層膜の製造装置であって、細線状基板の直径は20~100μmであり、スリットの幅は2~10mmであり、蒸着源からスリットまでの距離とスリットから細線状基板までの距離との比が、1:0.1~1:1である装置
【請求項5】
 更に、槽内に膜厚モニターを設けることを特徴とする請求項4に記載のフレネルゾーンプレート用多層膜の製造装置。
【請求項6】
 更に、蒸着源とスリットとの間にシャッターを設けることを特徴とする請求項4または5に記載のフレネルゾーンプレート用多層膜の製造装置。
Industrial division
  • Optical device
  • Surface treatment
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Right is in force
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