Top > Search of Japanese Patents > METHOD FOR PREPARING ALLYLFURAN COMPOUND

METHOD FOR PREPARING ALLYLFURAN COMPOUND commons

Patent code P110004869
File No. K079-383
Posted date Aug 18, 2011
Application number P2000-070419
Publication number P2001-261667A
Patent number P3281920
Date of filing Mar 14, 2000
Date of publication of application Sep 26, 2001
Date of registration Mar 1, 2002
Inventor
  • (In Japanese)山本 嘉則
  • (In Japanese)中村 達
  • (In Japanese)斎藤 慎一
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東北大学
Title METHOD FOR PREPARING ALLYLFURAN COMPOUND commons
Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for preparing allylfuran compound efficiently under mild conditions.

SOLUTION: A methylenecyclopropane compound of the following general formula (1) is made to react with a furan compound of the following general formula (2) in the presence of tetra(triphenylphosphinato)palladium and tributylphosphine oxide to prepare an allylfuran compound of general formula (3).

Outline of related art and contending technology (In Japanese)フランおよびその誘導体は、医薬品およびフラン化合物の製造方法として、ロジウムカルボニル錯体によるフランの2 位の炭素水素結合の触媒的活性化を利用してアセチレン類をフランと反応させた例が報告されている。
しかし従来の製造方法は、過剰なフラン化合物を使用し、さらに一酸化炭素による高圧条件と極度の高温条件を必要とする。
Field of industrial application (In Japanese)医薬品および化成品の中間原料として重要なアリルフラン化合物をパラジウム触媒を用いて製造する方法を提供している。
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
  下記一般式(1):
【化1】
 
(ここで、R1は、置換または無置換アルキル基、R2は、水素またはアルキル基であり、R1とR2は互いに結合して環を形成していてもよい)で示されるメチレンシクロプロパン化合物と下記一般式(2):
【化2】
 
(ここで、R3は、官能性置換基、R4は、水素または官能性置換基であり、R3とR4は互いに結合して環を形成していてもよい)で示されるフラン化合物とをテトラ(トリフェニルホスフィナト)パラジウムおよびトリブチルホスフィンオキシドの存在下に反応させて一般式(3):
【化3】
 
(ここで、R1、R2、R3およびR4は上記定義の通り)で示されるアリルフラン化合物を製造することを特徴とするアリルフラン化合物の製造方法。
Industrial division
  • Organic compound
  • Miscellaneous in the inorganic chemistry category
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Right is in force
Please contact us by facsimile if you have any interests on this patent.


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close