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(In Japanese)ナノ突起構造体及びその製造方法

Patent code P110004899
File No. P20060336
Posted date Aug 18, 2011
Application number P2007-066731
Publication number P2008-221439A
Patent number P5028620
Date of filing Mar 15, 2007
Date of publication of application Sep 25, 2008
Date of registration Jul 6, 2012
Inventor
  • (In Japanese)田中 俊一郎
  • (In Japanese)田中 宏幸
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人東北大学
Title (In Japanese)ナノ突起構造体及びその製造方法
Abstract (In Japanese)
【課題】
 従来のナノ突起構造体をさらに改良して、広範な用途が期待できるナノ突起構造体を提供する。
【解決手段】
 金属銅3などに低真空下で高エネルギービームが照射されることにより成長された突起2からなるナノ突起構造体であって、当該ナノ突起構造体は、高エネルギービームの照射方向が成長途中で変更されて、屈曲状または湾曲状または螺旋コイル状に形成されていることを特徴とするナノ突起構造体。および、突起2の成長途中で高エネルギービームの照射方向を変えることにより、突起2を屈曲状または湾曲状または螺旋コイル状に成長、形成することを特徴とするナノ突起構造体の製造方法。
【選択図】
 図4
Outline of related art and contending technology (In Japanese)原子や分子を堆積して特別構造の結晶表面や人工格子などのマイクロ・ナノ物質を、ボトムアップ方式で作成する場合において、適当な条件のもとでは自己組織化が進行する。自己組織化を利用すると基板表面のわずかな原子が堆積した突起を基にして針状の結晶を成長させて金属のナノロッドを作成したりすることができる。

このような自己組織化を利用したナノ突起構造体に係る発明を、発明者らは特許文献1として先に開示した。この開示に係るものは、圧延などによって形成された集合組織に、Arイオンビームなどの高エネルギービームを照射して、その照射領域に集合組織の優先方位に突出するナノ突起構造体を成長、形成させたものであって、このものは、各種デバイスや機能材料等への適用が期待される。このようなナノ突起構造体を、さらに多様な機能、構造を有するものとすれば、各種デバイス等への広範な用途が期待できる。
【特許文献1】特開2005-262373号公報 (図4)
Field of industrial application (In Japanese)本発明は、電気的、磁気的、機械的な用途への応用が期待できるナノ突起構造体及びその製造方法に関するものである。
Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
金属に低真空下で高エネルギービームが照射されることにより、高エネルギービームの照射方向に向かって成長されたナノ突起構造体であって、当該ナノ突起構造体は、高エネルギービームの照射方向が突起の成長途中に変更されることによって、屈曲状または湾曲状または螺旋コイル状に形成されていることを特徴とするナノ突起構造体。

【請求項2】
 
金属は、塑性加工により塑性歪みが付与されたものである請求項1に記載のナノ突起構造体。

【請求項3】
 
金属は、大気中で予め低温酸化処理がなされている請求項1又は2に記載のナノ突起構造体。

【請求項4】
 
金属に低真空下で高エネルギービームを照射して、金属の表面に高エネルギービームの照射方向に向けて突起を成長させるナノ突起構造体の製造方法であって、突起の成長途中に高エネルギービームの照射方向を変えることにより、突起を屈曲状または湾曲状または螺旋コイル状に成長、形成することを特徴とするナノ突起構造体の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
Drawing

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JP2007066731thum.jpg
State of application right Registered
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