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METHOD FOR PRODUCING MINUTE STRUCTURE commons

Patent code P110004940
Posted date Aug 18, 2011
Application number P2004-217825
Publication number P2006-035602A
Patent number P4500962
Date of filing Jul 26, 2004
Date of publication of application Feb 9, 2006
Date of registration Apr 30, 2010
Inventor
  • (In Japanese)向井剛輝
  • (In Japanese)八高隆雄
  • (In Japanese)丸尾昭二
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人横浜国立大学
Title METHOD FOR PRODUCING MINUTE STRUCTURE commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method which can accurately produce a minute structure having a minute, complex three-dimensional structure moldable by a photo-fabrication method and optional physical properties.
SOLUTION: A photo-polymer (1) is photo-fabricated as a minute, three-dimensional transfer mold (10). The three-dimensional structure of the photo-polymer is transferred to an optional metal (13) by the transfer mold. The metal is packed in the cavity (11) of the transfer mold, and the metal in the cavity, after being passed through an electrolytic grinding process and a resin elimination process, is demolded from the transfer mold. A mask for etching can be manufactured by the transfer mold. The profile of a transfer mold (30) is transferred to a special silicone resin (40). The silicone resin is adhered to a substrate (41) as the mask for etching, and the substrate (41) is etched.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


半導体等の表面を加工して三次元構造を得る技術として、リソグラフィが知られている。リソグラフィ装置又はリソグラフィ工程は、半導体ウェハ等に回路パターンを焼付ける装置又は工程として、光・電子デバイスの製造において使用されている。リソグラフィの技術は、微小構造体の製造工程においても使用し得ることから、リソグラフィ技術を応用して三次元構造のマイクロマシンを製造する微小構造体の製造方法が提案されている。例えば、特開平11-28768号公報及び特開平11-61436号公報には、基板上にリソグラフィ工程で二次元パターンの薄膜を形成し、基板及び薄膜をエッチング処理し、エッチング処理後の基板及び薄膜を多層に積層して三次元構造の微小ギア等を製造する微小構造体の製造方法が記載されている。



他方、光重合性樹脂原料にレーザー光を照射して三次元構造の光重合体を造形する光造形法が知られており、これを用いた微小構造体の製造方法が提案されている。光造形法は、例えば、特開2003-25295号公報、特開2001-158050号公報及び特開平11-17037号公報等に記載される如く、液状の光重合性樹脂原料にレーザー光を照射し、所望形状の光重合体からなる三次元構造体を成形する加工法として知られている。このような光造形法によれば、レーザー光の集光点や、2光子吸収を正確に制御することにより、比較的複雑な三次元構造を有するマイクロギア等の微小構造体を光重合性樹脂原料より製造することができる。なお、この光重合体は、通常は、光硬化性樹脂と呼ばれている。
【特許文献1】
特開平11-28768号公報
【特許文献2】
特開平11-61436号公報
【特許文献3】
特開2003-25295号公報
【特許文献4】
特開2001-158050号公報
【特許文献5】
特開平11-17037号

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、微小構造体の製造方法に関するものであり、より詳細には、任意の物性を有するマイクロ・ナノオーダーの微小構造体を成形する微小構造体の製造方法に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
光造形法により造形した光重合体を用いた微小構造体の製造方法において、
光重合体の三次元構造体を光造形法で任意形態に造形して微小且つ三次元構造の転写型を形成する転写型作製工程と、
無電解メッキによって任意の金属を前記転写型のキャビティ内に充填し、該キャビティ内の金属に前記転写型の三次元輪郭を転写するとともに、前記転写型の表面にメッキ層を形成する転写工程と、
前記転写型の表面に形成されたメッキ層を電解研削によって除去する電解研削工程とを有し、
光造形法で造形可能な三次元構造と実質的に同一の構造を有する微小且つ任意物性の金属製微小構造体を製造することを特徴とする微小構造体の製造方法。

【請求項2】
 
前記転写型を融解、焼失又は溶解させて、前記キャビティ内の金属を前記転写型から脱型することを特徴とする請求項1に記載の微小構造体の製造方法。

【請求項3】
 
微小構造体の物性を熱処理又は化学的処理によって改質することを特徴とする請求項1又は2に記載の微小構造体の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2004217825thum.jpg
State of application right Registered
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