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TITANOSILICATE AND METHOD OF PREPARING THE SAME commons meetings

Patent code P110004968
Posted date Aug 18, 2011
Application number P2006-226279
Publication number P2008-050186A
Patent number P4923248
Date of filing Aug 23, 2006
Date of publication of application Mar 6, 2008
Date of registration Feb 17, 2012
Inventor
  • (In Japanese)窪田 好浩
  • (In Japanese)小山 啓人
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人横浜国立大学
Title TITANOSILICATE AND METHOD OF PREPARING THE SAME commons meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To make it possible to prepare titanosilicate by replacing Al of a specific aluminosilicate MCM-68 (Patent application publication 2002-535227, WO 00/43316) with Ti, since the replacement of Al of the aluminosilicate MCM-68 with any other element has not yet been done so far.
SOLUTION: Titanosilicate is prepared by replacing Al of aluminosilicate MCM-68 with Ti by acid-treating MCM-68 and then treating with titanium chloride or titanium alkoxide of vapor-phase. This titanosilicate has a catalytic performance as an oxidizing catalyst equivalent to or higher than titanosilicate TS-1.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


アルミノシリケートMCM-68は2000年にMobil社により合成された比較的新しいゼオライトである(特許文献1)。このゼオライトは、大細孔(12員環細孔)や中細孔(10員環細孔)が三次元的に交わった構造をもつ。このタイプのゼオライトは一般に広い表面積と大きな内部空間を持つので、石油精製や石油化学プロセスにおける触媒として有用であり、比較的嵩高い有機分子を基質とする触媒として有用と期待されている。MCM-68はSi/Al比が9~12であることから比較的Al含有量、つまり活性点が多く、さらに安定なため酸触媒として検討され、中でも、炭化水素の吸着能力が高いため、それが関与する反応、例えば芳香族炭化水素のアルキル化やアルキル芳香族炭化水素のトランスアルキル化、異性化、不均化、脱アルキル化などにおいて高い活性を示すため、炭化水素プロセシング触媒の基盤材料として期待されている。
一方、チタンシリカライトTS-1は、チタノシリケート系ゼオライトの代表として、有機化合物の酸化反応等の触媒として高い活性と選択率を示すことが知られている(特許文献2)。
TS-1のような高い触媒活性を持つゼオライトを合成するための手法として、例えば、脱アルミニウムモルデナイトを高温のTiCl4の蒸気で処理することによりTiを導入する技術が知られている(非特許文献1)。



【特許文献1】
特表2002-535227(WO00/43316)
【特許文献2】
特開2004-175801
【非特許文献1】
J. Phys. Chem. 1996, 100, 10316-10322

Field of industrial application (In Japanese)


この発明は、アルミノシリケートMCM-68の骨格を有するチタノシリケートに関し、より詳細には、アルミノシリケートMCM-68からAlを除去し、その代わりにTiを導入して得られたチタノシリケートに関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
組成式
H4n-3m-4lTilAlmSi112-nO224
(式中、lは1.11~12、mは0~0.74、nは7~12、但し、l+m≦nである。)で表され、Si/Tiが100以下かつSi/Alが150以上であり、下記の値
2θ=6.50±0.10、6.80±0.10、8.10±0.10、8.72±0.10、9.64±0.10、19.40±0.10、21.70±0.10、22.56±0.10、23.08±0.10
を含むX線回折パターンを示すチタノシリケート。

【請求項2】
 
アルミノシリケートMCM-68を、Si/Alが150以上となるように、酸処理を行い、その後この酸処理されたアルミノシリケートMCM-68を、Si/Tiが100以下となるように、気相の塩化チタン又はチタンアルコキシドで処理することにより得られた請求項1に記載のチタノシリケート。

【請求項3】
 
請求項1に記載のチタノシリケートを製造するための方法であって、アルミノシリケートMCM-68を、Si/Alが150以上となるように、酸処理を行い、その後この酸処理されたアルミノシリケートMCM-68を、Si/Tiが100以下となるように、気相の塩化チタン又はチタンアルコキシドで処理することから成るチタノシリケートの製法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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