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PLASMA VAPOR-DEPOSITION APPARATUS

Patent code P110005202
File No. P04-025
Posted date Aug 18, 2011
Application number P2005-154901
Publication number P2006-328490A
Patent number P4774510
Date of filing May 27, 2005
Date of publication of application Dec 7, 2006
Date of registration Jul 8, 2011
Inventor
  • (In Japanese)長澤 武
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人宇都宮大学
Title PLASMA VAPOR-DEPOSITION APPARATUS
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a plasma vapor-deposition apparatus which vapor-deposits a desired raw material for vapor deposition on an objective article in the air.
SOLUTION: This vapor deposition apparatus has a ring or cylindrical electrode, a stick electrode and a high voltage power supply. The method for vapor-depositing the raw vapor-deposition material on the objective article comprises the steps of: generating discharge between the ring or cylindrical electrode and the stick electrode by applying predetermined voltage generated in the high voltage power supply on between the ring or cylindrical electrode and the stick electrode; evaporating the raw material for vapor deposition by the heat of the discharge; converting the formed vapor into plasma; and spouting the plasma toward the objective article.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

従来から、たとえば対象物の表面に膜を形成して、その対象物の保護等を行なう表面処理や、また、対象物の上にその対象物と同一種類の原料または異なる種類の原料を積層して所望の構造のものを得る技術がよく知られている。

この実現手段の例としては、対象物にメッキを施したり、ペンキを用いて吹き付け塗装を行ったりすること、また対象物上に所望の原料の蒸着を行うことなどが挙げられる。

特許文献1では、真空中にて、蒸着原料をアーク放電によって蒸発させ、プラズマ化し、たとえば磁場によってこれを基板上に誘導し、基板上に蒸着原料の膜を形成する真空アーク蒸着装置について開示している。

【特許文献1】
特開2002-266066号公報

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、密閉された真空環境などではなく、大気中でプラズマを生成し、そのプラズマによる蒸着を行うプラズマ蒸着装置に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
リング状または円筒状電極と、棒状電極と、高圧電源とを有し、前記リング状または円筒状電極と前記棒状電極との間に前記高圧電源による所定の電圧を印加することによって、前記リング状または円筒状電極と前記棒状電極との間に放電を発生させ、該放電の熱によって前記リング状または円筒状電極と前記棒状電極との間に配置した蒸着原料を蒸発させてプラズマ化し、該プラズマをエアポンプによるガスの注入によって、そのガスとともに対象物に向けて大気中で噴出することによって該対象物に対する前記蒸着原料の蒸着を行うことを特徴とするプラズマ蒸着装置。

【請求項2】
 
前記棒状電極が、前記リング状または円筒状電極の中心軸上の位置に設けられたことを特徴とする請求項1に記載のプラズマ蒸着装置。

【請求項3】
 
請求項1または2に記載のプラズマ蒸着装置を複数備えてなることを特徴とするマルチ型のプラズマ蒸着装置。

【請求項4】
 
前記リング状または円筒状電極と該棒状電極との間に放電を発生させたときに該棒状電極の先端を冷却する手段を設けたことを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ蒸着装置。

【請求項5】
 
前記棒状電極が中空の円筒状であり、前記リング状または円筒状電極と該棒状電極との間に放電を発生させたとき、該棒状電極の中空内部にガスを通過させることによって、該棒状電極の先端を冷却することを特徴とする請求項1または2に記載のプラズマ蒸着装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2005154901thum.jpg
State of application right Registered
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