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(In Japanese)修飾シクロデキストリンのフィルム又はファイバー並びにその作成方法 foreign

Patent code P110005751
File No. P05-006R
Posted date Sep 13, 2011
Application number P2006-527797
Patent number P4882068
Date of filing Aug 31, 2005
Date of registration Dec 16, 2011
International application number JP2005015898
International publication number WO2006085404
Date of international filing Aug 31, 2005
Date of international publication Aug 17, 2006
Priority data
  • P2005-036233 (Feb 14, 2005) JP
  • P2005-073334 (Mar 15, 2005) JP
Inventor
  • (In Japanese)桑原 哲夫
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人山梨大学
Title (In Japanese)修飾シクロデキストリンのフィルム又はファイバー並びにその作成方法 foreign
Abstract (In Japanese)オブラートのような包装フィルム(例えば食品や薬物を包むフィルムや、食品が漏れだすと色変化するようなパッケージ)等、医薬、食品、農薬等において幅広い用途が期待できる色素修飾シクロデキストリンフィルムを提供する。α-シクロデキストリンをp-メチルレッドで修飾して成る色素修飾シクロデキストリンの前記p-メチルレッドが、該p-メチルレッドとは別の色素修飾シクロデキストリンのα-シクロデキストに包接される構造を有することにより、前記色素修飾シクロデキストリン同士が分子間で高次に連結して分子集合体を形成することで構成される。
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


図10に示すように、シクロデキストリンは環状オリゴ糖であり、構成するグルコースの数が6、7、8のものが一般的であり、それぞれα-、β-、γ-シクロデキストリンとして知られている。シクロデキストリンは、底の抜けたバケツ型構造をしており、上下に開口した空洞部を有している。この空洞部における開口部の狭い側にはグルコースの一級水酸基が位置すると共に、開口部の広い側には二級水酸基が位置しており、空洞内は疎水的な環境を呈している。この特異な構造ゆえにシクロデキストリンは、図11に示すように、水溶液中で様々なゲスト分子を、ホストであるシクロデキストリンの空洞内に取り込み包接化合物(包接錯体)を形成する能力を有している。



このシクロデキストリンの包接特性を利用して、農薬、化粧品、食品等の広い分野にシクロデキストリンが応用されている(例えば、特許文献1、特許文献2)。また、シクロデキストリンは化学的な修飾により性質を変えることができ、例えば分光学的に不活性なシクロデキストリンは、ある種の発色団(クロモフォア)で化学的に修飾することにより、分光学的に活性なシクロデキストリンに変換することが可能である。



ところで、近年、急速に進歩した科学における方法論として、Supramolecule (超分子)がある。これは、個々別々の性質を持った物質を三次元空間の最適位置に配置することにより、各成分の協同効果、相乗効果を引き出し、高能率性と高選択性とを合わせ持った新しい物質を創り出そうとするもので、この超分子においてシクロデキストリンの特性である分子包接能が注目されている。



従って、このようなシクロデキストリンの特性を利用することにより、より高次な分子集合体の形成へと導き、具体的なフィルムやファイバーとして得ることは、超分子系のデバイス化や実用化において必須のプロセスである。超分子のフィルムやファイバーは、(1)低分子の分子集合体であること、(2)分子間相互作用という弱い結合により高分子化を実現していること、(3)分子包接能を有している等のことから、従来の例えばポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂等のような高分子フィルムとは異なるユニークな性質を示すことが期待される。
【特許文献1】
特開2003-321474号公報
【特許文献2】
特開2002-348276号公報
【特許文献3】
特開2000-004854号公報

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は修飾シクロデキストリンのフィルム又はファイバー並びにその作成方法に係り、特に超分子系の性質を有する機能性フィルム又は機能性ファイバーの製造技術に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
修飾シクロデキストリンが、分子間で高次に会合して成る修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーであって、
前記修飾シクロデキストリンは、p-メチルレッドで修飾されたα-シクロデキストリンであることを特徴とする修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバー。

【請求項2】
 
シクロデキストリンと高次会合体を形成可能な修飾物質で修飾された修飾シクロデキストリンを溶媒に溶解し、前記修飾シクロデキストリンが溶解した溶液を濃縮し、高次会合せしめることを特徴とする修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーの作成方法であって、
前記修飾シクロデキストリンは、p-メチルレッドで修飾されたα-シクロデキストリンであることを特徴とする修飾シクロデキストリンフィルム又はファイバーの作成方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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