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METHOD FOR PRODUCTION OF PARTICULATE meetings

Patent code P120006676
File No. P10-095
Posted date Feb 22, 2012
Application number P2011-017820
Publication number P2012-158785A
Patent number P5807893
Date of filing Jan 31, 2011
Date of publication of application Aug 23, 2012
Date of registration Sep 18, 2015
Inventor
  • (In Japanese)畠山 義清
  • (In Japanese)西川 恵子
Applicant
  • Chiba University
Title METHOD FOR PRODUCTION OF PARTICULATE meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for stably producing a metal particulate having less environmental load as an ionic liquid substitute.
SOLUTION: The metal particulate is produced by sputtering at least either one of a noble metal, Si and Cd to a liquid polymeric polyethylene glycol. The noble metal used in the process preferably includes either gold, silver, copper or platinum. It is preferable in the process that the number-average molecular weight of the polymeric polyethylene glycol is in the range from 200 to 800, and further referable in the process to perform a heating treatment after sputtering.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)


金属微粒子は配線材料や医療用検査試薬等の原料素材として利用されている。その中でも特にナノレベル(10-9m程度)の金属微粒子には、装置等の小型化はもちろん、微細ゆえ例えば量子効果等特殊な現象が発現し、予想を超える性能や特異な性能を有すると期待されており、いわゆるナノテクノロジーとして研究が盛んにおこなわれている。



たとえば下記特許文献1、非特許文献1にはイオン液体にスパッタリングを行い、金属・半導体のナノ粒子を調整する方法が報告されている。

Field of industrial application (In Japanese)


本発明は、微粒子の製造方法に関する。より具体的には、貴金属微粒子、Si微粒子又はCd微粒子の製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
数平均分子量が400以上600以下の範囲にある液体高分子ポリエチレングリコールに、金、銀、銅、白金の少なくともいずれかを含む貴金属、Si及びCdの少なくともいずれかを20℃以上120℃以下の温度範囲でスパッタリングし、
当該スパッタリングの後、100℃以下の範囲で加熱処理を行うことにより粒径を調整する微粒子の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2011017820thum.jpg
State of application right Registered
(In Japanese)上記の特許・技術に関心のある方は、下記問い合わせ先にご相談下さい。


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