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DETECTOR AND MANUFACTURING METHOD OF DETECTOR meetings

Patent code P120007570
Posted date May 23, 2012
Application number P2012-062597
Publication number P2013-195233A
Patent number P5897362
Date of filing Mar 19, 2012
Date of publication of application Sep 30, 2013
Date of registration Mar 11, 2016
Inventor
  • (In Japanese)原 和裕
  • (In Japanese)澤出 憲
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東京電機大学
Title DETECTOR AND MANUFACTURING METHOD OF DETECTOR meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a detector of a thin film system in which a large size is suppressed and a detection sensitivity is enhanced.
SOLUTION: A first detection film 120 is formed on a substrate 110. A second detection film 130 is disposed to be away from the first detection film 120 and face the first detection film 120. Between the first detection film 120 and the second detection film 130 is hollow. A first support member 140 supports the second detection film 130 in such a manner as to be away from the first detection film 120. Two conductive members 150 are connected in parallel to the first detection film 120 and the second detection film 130, and are separated away from each other.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

空気中の二酸化炭素など、特定の成分を検出する装置としては、例えば特許文献1,2に記載されているように、薄膜ガスセンサがある。薄膜ガスセンサは、絶縁性の基板上に、検知膜としての金属酸化物の薄膜を体積法により形成するものである。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、特定の成分を検出する検出装置及び検出装置の製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
基板上に第1検出膜を形成する工程と、
前記第1検出膜上に犠牲膜を形成する工程と、
前記犠牲膜上に、第2検出膜を形成する工程と、
前記第1検出膜、前記犠牲膜、及び前記第2検出膜の積層膜の側部に第1支持部材を設けるとともに、前記側部に、第1導電部材及び第2導電部材を互いに離間して設ける工程と、
前記犠牲膜を除去する工程と、
を備え
前記第2検出膜を形成する工程の後に、前記第2検出膜を熱処理して前記第2検出膜を多孔質にする工程を有し、
前記第2検出膜を多孔質にする工程は、前記犠牲膜を除去する工程の前に行われ、
前記犠牲膜を除去する工程において、前記犠牲膜をウェットエッチングにより部分的に除去することにより、前記第1検出膜と前記第2検出膜の間に、前記第2検出膜を前記第1検出膜上で支持する第2支持部材を形成する検出装置の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2012062597thum.jpg
State of application right Registered
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