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FINE PARTICLE PREPARATION METHOD

Patent code P120008120
File No. 468
Posted date Nov 1, 2012
Application number P2004-126544
Publication number P2005-305320A
Patent number P4122440
Date of filing Apr 22, 2004
Date of publication of application Nov 4, 2005
Date of registration May 16, 2008
Inventor
  • (In Japanese)奥山 喜久夫
  • (In Japanese)ウレット レンゴロ
  • (In Japanese)ミクラジュディン アブドラ
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人広島大学
Title FINE PARTICLE PREPARATION METHOD
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for simply preparing fine particles with a size ranging from submicron order to nm order in a short time.
SOLUTION: The raw material solution is formed by dissolving raw materials constituting the fine particles in a predetermined solvent. Then, a polymer-containing raw material solution is formed by adding a polymeric material to the raw material solution. Then, the fine particles are produced from the polymer-containing solution by heating the polymer-containing solution to a predetermined temperature.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

近年、nmオーダの微粒子に関する研究が盛んに行われている。一方で、サブミクロンオーダあるいは数十nmオーダの微粒子についても、その応用的な見地から極めて重要である。例えば、画像表示装置における画素を前述のようなオーダの微粒子から構成することによって、前記画像表示装置の画質を著しく向上させることができる。しかしながら、現状においては、前述したような微粒子を短時間で簡易に作製する方法が開示されていない。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、微粒子の作製方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
所定の溶媒中に、無機微粒子を構成する原料を溶解させて原料溶液を形成する工程と、
前記原料溶液中に高分子材料を添加溶解して、ポリマー含有原料溶液を形成する工程と、
前記ポリマー含有原料溶液中に、無機フラックス塩を含有させる工程と、
前記ポリマー含有原料溶液を所定温度に加熱して、前記ポリマー含有原料溶液中の高分子材料を分解除去することにより前記無機微粒子を生成する工程と、
を具えることを特徴とする、無機微粒子の作製方法。

【請求項2】
 
前記高分子材料の分子量が、400~4,000,000であることを特徴とする、請求項1に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項3】
 
前記高分子材料は、ポリエチレングリコール、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、及びデキストラン、プルランから選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項2に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項4】
 
前記ポリマー含有原料溶液の加熱保持時間を調節することによって、前記無機微粒子の粒子径を制御することを特徴とする、請求項1~3のいずれか一に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項5】
 
前記ポリマー含有原料溶液の加熱温度を調節することによって、前記無機微粒子の粒子径を制御することを特徴とする、請求項1~4のいずれか一に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項6】
 
前記ポリマー含有原料溶液の加熱温度が1000℃以下であることを特徴とする、請求項1~5のいずれか一に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項7】
 
前記無機微粒子の大きさがnmオーダから数十nmオーダであることを特徴とする、請求項1~6のいずれか一に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項8】
 
前記無機フラックス塩は、BaF2、LiNO3、NaCl、KCl、KFまたはそれらの混合フラックスから選ばれる少なくとも一種であることを特徴とする、請求項1に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項9】
 
前記無機微粒子の作製後において、前記無機微粒子に付着した前記無機フラックス塩を洗浄する工程を具えることを特徴とする、請求項8に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項10】
 
前記無機フラックス塩の洗浄は、前記無機微粒子を所定の溶媒中に浸漬させ、超音波洗浄を行う工程を含むことを特徴とする、請求項9に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項11】
 
前記無機フラックス塩の洗浄は、前記無機微粒子に対して遠心分離を行う工程を含むことを特徴とする、請求項10に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項12】
 
前記無機微粒子の大きさがサブミクロンオーダであることを特徴とする、請求項8~11のずれか一に記載の微粒子の作製方法。

【請求項13】
 
前記ポリマー含有原料溶液に対して予備加熱を施し、前記原料溶液を構成する前記溶媒を除去する工程を具えることを特徴とする、請求項1~12のいずれか一に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項14】
 
前記ポリマー含有原料溶液のpHを調節して、前記無機微粒子の結晶構造を制御する工程を具えることを特徴とする、請求項1~13のいずれか一に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項15】
 
前記無機微粒子は、(Y,Ga)3Al5O12:Ce微粒子であることを特徴とする、請求項1~14のいずれか一に記載の無機微粒子の作製方法。

【請求項16】
 
前記ポリマー含有原料溶液を酸性にすることを特徴とする、請求項14に記載の微粒子の作製方法。

【請求項17】
 
前記(Y,Ga)3Al5O12:Ce微粒子は、アルミナイットリアガーネット(YAG)相を含むことを特徴とする、請求項15に記載の微粒子の作製方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2004126544thum.jpg
State of application right Registered


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