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POROUS MEMBRANE, POROUS STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCING THOSE AND SENSOR

Patent code P120008357
File No. S2011-0295
Posted date Nov 29, 2012
Application number P2011-001919
Publication number P2012-144588A
Patent number P5880995
Date of filing Jan 7, 2011
Date of publication of application Aug 2, 2012
Date of registration Feb 12, 2016
Inventor
  • (In Japanese)下山 勲
  • (In Japanese)松本 潔
  • (In Japanese)グェン ビン キエム
Applicant
  • The University of Tokyo
Title POROUS MEMBRANE, POROUS STRUCTURE, METHOD FOR PRODUCING THOSE AND SENSOR
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a porous membrane and a porous structure expected to become new application forms of a paraxylylene-based polymer; and to provide methods for producing those and a sensor.
SOLUTION: The porous structure 1 is formed by vapor-depositing Parylene (R) on a liquid layer 6 comprising a liquid to be vapor-deposited by way of a thin-film forming treatment through a CVD process, thereby forming a porous membrane 3 on the surface in contact with the liquid surface of the liquid layer 6 in the porous structure 1. Then the porous membrane 3 on the Parylene (R) membrane 2 is exposed to outside by peeling the porous structure 1 from the liquid layer 6 so that the porous membrane 3 can be used for various applications. Thus this invention can provide a porous membrane 3 becoming new application forms of the paraxylylene-based polymer.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

従来、電子部品や医療機器、自動車パーツ等の各種部材の表面をコートティングするコーティング材として、パリレンCやパリレンN等のパラキシリレン系ポリマー(以下、単にパリレンとも呼ぶ)が知られている(例えば、特許文献1及び2参照)。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、多孔質膜、多孔質構造体、それらの製造方法及びセンサに関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
パリレンからなり、表面が滑らかなパリレン膜と、
前記パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成され、前記パリレン膜の一面に設けられた多孔質膜とからなる
ことを特徴とする多孔質構造体

【請求項2】
 
表面が平坦に形成されている
ことを特徴とする請求項1記載の多孔質構造体

【請求項3】
 
内部に隙間のないパリレン膜の一面に形成されている多孔質膜であって、
パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成され、修飾物質を含む
ことを特徴とす多孔質膜。

【請求項4】
 
CVD(Chemical Vapor Deposition)法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残る液体からなる液体層を形成する第1のステップと、
前記CVD法によって前記液体層の液体表面にパリレンを蒸着させ、多孔質膜を形成する第2のステップと、
前記液体層から前記多孔質膜を剥離する第3のステップと
を備えることを特徴とする多孔質構造体の製造方法。

【請求項5】
 
CVD(Chemical Vapor Deposition)法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残る液体からなる液体層を形成する第1のステップと、
前記CVD法によって前記液体層の液体表面にパリレンを蒸着させ、多孔質膜を形成する第2のステップと、
前記液体層から前記多孔質膜を剥離する第3のステップとを備え、
前記第1のステップにおける前記液体層には、修飾物質が含有されており、
前記第2のステップでは、前記多孔質膜に前記修飾物質が含まれる
ことを特徴とす多孔質膜の製造方法。

【請求項6】
 
パリレンからなり、表面が滑らかなパリレン膜と、
前記パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成された多孔質膜とを備え、
前記多孔質膜が前記パリレン膜に所定パターンで形成されている
ことを特徴とする多孔質構造体。

【請求項7】
 
前記パリレン膜は親水性又は疎水性を有し、
前記多孔質膜は、前記パリレン膜が親水性又は疎水性であるかに応じて、該パリレン膜と異なる疎水性又は親水性を有している
ことを特徴とする請求項6記載の多孔質構造体。

【請求項8】
 
前記多孔質膜の一面に前記パリレン膜が形成され、該多孔質膜の他面に別のパリレン膜が形成され、2つの前記パリレン膜により前記多孔質膜が挟まれた構造を有する
ことを特徴とする請求項6又は7記載の多孔質構造体。

【請求項9】
 
前記多孔質膜が設けられた前記パリレン膜の一面と対向する他面に電極を備え、
前記多孔質膜又は前記パリレン膜のいずれかに導電性液体が貯溜されて形成された液体膨出部と、前記電極との間に電圧を印加することで、前記電極と前記導電性液体との固液界面のエネルギー変化により、前記液体膨出部の表面形状を変化させる
ことを特徴とする請求項6又は7記載の多孔質構造体。

【請求項10】
 
CVD(Chemical Vapor Deposition)法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残り、かつパリレンが蒸着可能な被蒸着液体からなる第1の液体層と、前記CVD法による薄膜形成処理の際に蒸発せずに残り、かつ前記パリレンが蒸着不可能な非蒸着液体からなる第2の液体層とを形成する第1のステップと、
前記CVD法によって前記第1の液体層の液体表面に前記パリレンを蒸着させて多孔質膜を形成し、前記第2の液体層に前記パリレンを蒸着させずに隙間を形成する第2のステップと、
前記第1の液体層から前記多孔質膜を剥離する第3のステップとを備え、
前記隙間を設けることで前記多孔質膜を所定のパターンに形成する
ことを特徴とする多孔質構造体の製造方法。

【請求項11】
 
気体を検知する検知手段が設けられた基板と、
パリレンからなり、複数の微細な孔を有した多孔質状に形成され、前記検知手段を覆うようにして前記基板上に設けられた請求項1に記載の多孔質構造体とを備え、
前記多孔質構造体の多孔質膜は、外部の気体を透過させて前記検知手段により該気体を検知させ、
前記検知手段は気体反応液体であり、該気体反応液体が前記基板上に貯溜されることにより液体層を形成し、該液体層を覆うように前記多孔質膜が形成されている
ことを特徴とするセンサ。

【請求項12】
 
気体を検知する検知手段が設けられた基板と、
前記検知手段を取り囲むように前記基板上に形成され、気体が透過する液体層と、
多孔質膜で前記液体層を覆うようにして前記基板上に設けられた請求項1に記載の多孔質構造体とを備え、
前記検知手段はトランスデューサであり、該トランスデューサが前記基板に配置されており、
前記多孔質構造体の多孔質膜は、外部の気体を透過させて前記液体層を介して前記トランスデューサまで該気体を到達させ、前記トランスデューサにより前記気体を検知させる
ことを特徴とすセンサ。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2011001919thum.jpg
State of application right Registered
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