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PHOTORESPONSIVE POLYMER AND MOLDED OBJECT MADE BY FORMING THE PHOTORESPONSIVE POLYMER, AND ITS USAGE commons

Patent code P130008824
File No. 308
Posted date Mar 27, 2013
Application number P2011-002989
Publication number P2012-144610A
Patent number P5765729
Date of filing Jan 11, 2011
Date of publication of application Aug 2, 2012
Date of registration Jun 26, 2015
Inventor
  • (In Japanese)宮田 隆志
  • (In Japanese)浦上 忠
  • (In Japanese)小嶋 友里
Applicant
  • (In Japanese)学校法人関西大学
Title PHOTORESPONSIVE POLYMER AND MOLDED OBJECT MADE BY FORMING THE PHOTORESPONSIVE POLYMER, AND ITS USAGE commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoresponsiveness polymer capable of forming fine pattern in three dimensions, without requiring mold.
SOLUTION: In the photoresponsive polymer which is a polymer including a photoresponsive group for forming a bridged structure by receiving irradiation with light, the photoresponsive group in a proportion corresponding to a light ray amount of the light forms the bridged structure, and thereby, a volume of the amount corresponding to the light ray amount of the light is decreased. The photoresponsive group is desired to be a dimerization group which is mutually dimerized by receiving irradiation with the light. A cinnamoyl group, a coumarin group, a thymine group, a quinone group, a maleimide group, a chalcone group, and a uracil group, etc. are exemplified as the dimerization group.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

従来、微細パターンの形成にマイクロコンタクトプリント法、フォトレジスト法などが採用され、各種の分野にて応用されている。

上記マイクロコンタクトプリント法は、微細パターンを持つスタンプに分子を塗布し、スタンプを基板に密着させることによって基板等に微細パターンを形成する方法である。上記スタンプの作製は、光リソグラフィー等によって作製した鋳型をシリコーンゴム等に転写することによってなされる。スタンプの微細パターンはナノメートルオーダーである場合もあり、精密な鋳型形成が要求される。

また、基板でなく、高分子等の材料に対してスタンプを密着させることによって、微細パターンを形成することもできる。なお、マイクロコンタクトプリント法に関する一例として、特許文献1が挙げられる。

具体的な作製物としてはマイクロ流路が挙げられる。マイクロ流路は、マイクロ化学分析(μ-TAS)などに用いられ、デバイス要素を有するものである。このマイクロ流路は様々なプリント技術を用いて作製されているが、基板に対して、鋳型のプリント工程が必要である。

一方、フォトレジスト法では、光照射を受けた部分が溶媒に対して不溶化または可溶化するフォトレジストが使用される。当該方法では、上記材料に光を照射した後に溶媒を用いて可溶部を溶解させる現像という作業が必要であり、可溶部または不溶部の変化に基づくため、フォトレジストの残存の有無によって情報が記録される。

このようにマイクロコンタクトプリント法、フォトレジスト法などの微細加工技術はナノテクノロジーを支える重要な要素技術である。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、光応答性高分子が形成されてなる成形物に関するものである。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
光の照射を受けて架橋構造を形成する光応答性基を含む高分子であって、光の光線量に応じた割合の光応答性基が架橋構造を形成することにより、上記光の光線量に応じた量の体積が減少する光応答性高分子が、上記光応答性基に光の照射を受けて、光の光線量に応じた量の体積が減少することによって形成されてなり、3次元的な凹凸形状が形成されていることを特徴とする、成形物。

【請求項2】
 
上記光応答性高分子は、柔軟な高分子鎖を含み、
上記柔軟な高分子鎖は、上記光応答性基が架橋構造を形成するとき、上記架橋構造の形成に伴って体積変化することを特徴とする、請求項1に記載の成形物。

【請求項3】
 
上記光応答性基は、光の照射を受けて互いに二量化する二量化基であることを特徴とする、請求項1または2に記載の成形物。

【請求項4】
 
上記二量化基が、シンナモイル基、クマリン基、チミン基、キノン基、マレイミド基、カルコン基およびウラシル基からなる群から選ばれる少なくとも1種類の置換基を含むことを特徴とする、請求項3に記載の成形物。

【請求項5】
 
上記柔軟な高分子鎖は、ケイ素数が20以上、50000以下の、シロキサンおよびシリコーン;ならびに炭素数が20以上、50000以下のイソプレン、スチレン-ブタジエン、ブタジエン、エチレン-プロピレン、ブタジエン-ニトリル、クロロプレン、アクリルおよびウレタンからなる群から選ばれる少なくとも1種類の構造を含むことを特徴とする、請求項2に記載の成形物。

【請求項6】
 
マイクロ流路であることを特徴とする、請求項1~5の何れか1項に記載の成形物。

【請求項7】
 
ホログラムであることを特徴とする、請求項1~5の何れか1項に記載の成形物。

【請求項8】
 
表面レリーフであることを特徴とする、請求項1~5の何れか1項に記載の成形物。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2011002989thum.jpg
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