Top > Search of Japanese Patents > GRAPHENE WIRING STRUCTURE

GRAPHENE WIRING STRUCTURE

Patent code P130009022
File No. 11001
Posted date Apr 9, 2013
Application number P2011-163193
Publication number P2012-144421A
Patent number P5783530
Date of filing Jul 26, 2011
Date of publication of application Aug 2, 2012
Date of registration Jul 31, 2015
Priority data
  • P2010-284762 (Dec 21, 2010) JP
Inventor
  • (In Japanese)成塚 重弥
  • (In Japanese)丸山 隆浩
Applicant
  • (In Japanese)学校法人名城大学
Title GRAPHENE WIRING STRUCTURE
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a flexible graphene wiring structure capable of sending a comparatively large current.
SOLUTION: In this graphene wiring structure 10, insulating resin layers 12, 22, 32, 42 and graphene layers 16, 26, 36 are laminated repeatedly. Insulating resin layers 12, 22 exist over and below a graphene layer 16, and insulating resin layers 22, 32 exist over and below a graphene layer 26, and insulating resin layers 32, 42 exist over and below a graphene layer 36. Further, a catalytic metal layer 14 is interposed between the insulating resin layer 12 and the graphene layer 16, and a catalytic metal layer 24 is interposed between the insulating resin layer 22 and the graphene layer 26, and a catalytic metal layer 34 is interposed between the insulating resin layer 32 and the graphene layer 36, The catalytic metal layers 14, 24, 34 have a promoting function for making graphene. Each graphene layer 16, 26, 36 is formed by laminating odd-numbered (in this case, three) graphene sheets in all cases.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

グラフェンは、炭素原子の六員環が単層で連なって平面状になった二次元材料である。このグラフェンは、電子移動度がシリコンの100倍以上と言われている。近年、グラフェンをチャネル材料として利用したトランジスタが提案されている(特許文献1参照)。特許文献1では、絶縁基板上に、絶縁分離膜で分離された触媒膜パターンを形成し、その触媒膜パターン上にグラフェンシートを成長させたあと、そのグラフェンシートの両側にドレイン電極及びソース電極を形成すると共に、グラフェンシート上にゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成している。ここで、触媒膜パターンは絶縁膜で分離されているが、グラフェンシートは触媒膜パターンの端では横方向に延びることから、絶縁分離膜の両側の触媒膜パターンからグラフェンシートが延びて絶縁分離膜上でつながった構造が得られると説明されている。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、グラフェン配線構造

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
絶縁樹脂層とグラフェン層とが繰り返し積層され、各グラフェン層の上下には前記絶縁樹脂層が存在する、グラフェン配線構造。

【請求項2】
 
前記絶縁樹脂層と前記グラフェン層との間には、グラフェン化を促進する機能を有する触媒金属層が介在する、請求項1に記載のグラフェン配線構造。

【請求項3】
 
各グラフェン層は、いずれも奇数枚のグラフェンシートを積層したものであるか、又は、いずれも偶数枚のグラフェンシートを積層したものである、
請求項1又は2に記載のグラフェン配線構造。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

※Click image to enlarge.

JP2011163193thum.jpg
State of application right Registered
Please contact us by E-mail or facsimile if you have any interests on this patent


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close