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SUBSTRATE, CELL CULTURE APPARATUS, CELL CHIP AND CULTURE METHOD

Patent code P130009256
File No. 22854
Posted date May 14, 2013
Application number P2010-018665
Publication number P2011-155865A
Patent number P5688695
Date of filing Jan 29, 2010
Date of publication of application Aug 18, 2011
Date of registration Feb 6, 2015
Inventor
  • (In Japanese)三好 洋美
  • (In Japanese)山形 豊
  • (In Japanese)安達 泰治
  • (In Japanese)朱 正明
  • (In Japanese)コ ジョンス
  • (In Japanese)イ サンミン
  • (In Japanese)チョ ドンジン
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人理化学研究所
Title SUBSTRATE, CELL CULTURE APPARATUS, CELL CHIP AND CULTURE METHOD
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate that controls movement and adhesion of cells in high accuracy and makes a cell adhesion region flexibly deal with purpose, use, etc., and various apparatuses equipped with the substrate.
SOLUTION: The substrate includes an adhesion region 12 having an adhesion surface 21a for cell adhesion and an inhibitory region 13 that is adjacent to the adhesion region 12 and inhibits cell adhesion. The inhibitory region 13 is equipped with a plurality of multangular pillar-shaped structures 22.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

細胞の移動を制御し、かつ細胞を接着させる技術は、医学的、工学的な応用に有用であり、再生医療、組織工学、臨床診断、生物医学実験、抗生物汚染材料の開発などの基盤をなす。また、当該技術は、細胞の移動/接着のメカニズムに対する解明に有用である。

特許文献1には、ナノファイバーを利用した細胞接着基材について記載されている。

非特許文献1には、2次元平面を化学修飾することによって、細胞の接着・非接着領域を作製し、細胞をパターニングする技術が記載されている。非接着領域を形成する物質として、poly-L-lysine-g-poly(ethylene glycol)が記載されている。

非特許文献2には、2次元平面を化学修飾することによって、細胞の接着・非接着領域を作製し、細胞の移動運動を制御する技術が記載されている。

非特許文献3には、側面が疎水性である数十マイクロメートルオーダーのサイズの構造物を利用して、この構造物と構造物との間に空気をトラップして構造物間への細胞の進入を阻むことによって、当該構造物上に細胞をパターニングする技術が記載されている。

非特許文献4には、ファイブロネクチンでコートされたPDMS製であり、かつマイクロメートルオーダーのサイズである柱状構造体が集合した領域に対して、繊維芽細胞の進入が抑制されることが記載されている。

非特許文献5には、表面の格子形マイクロテクスチャーの密度勾配および異方性を利用して、細胞の移動運動を制御することによって、標的の領域に細胞を捕集する技術が記載されている。

また、非特許文献6~8には、溝が設けられた基板が記載されている。これらの溝は、この溝に沿って細胞を並べるためのものである。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、細胞を接着させる基板、これを備えた細胞培養装置および細胞チップ、ならびに培養方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
細胞を接着させるための接着面を有する接着領域と、
上記接着領域に隣接して設けられる、細胞の接着を阻害するための阻害領域とを備えており、
上記阻害領域は、複数の多角柱形状の構造物を備えており、
上記構造物は、上記接着面と略同じ高さの頂上面を有しており、
隣接する2つの上記構造物の間隔は、0.5μm以上1.5μm以下であることを特徴とする基板。

【請求項2】
 
複数の上記構造物は、上記接着領域と上記阻害領域との境界に沿って、複数の列において配置されていることを特徴とする請求項1に記載の基板。

【請求項3】
 
上記構造物は、四角柱形状であることを特徴とする請求項1または2に記載の基板。

【請求項4】
 
上記構造物の頂上面の一辺の長さは、3μm以上20μm以下であることを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載の基板。

【請求項5】
 
上記接着領域と上記阻害領域との境界に隣接して設けられた上記構造物の頂上面における少なくとも1つの角は、上記接着領域に対向していることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載の基板。

【請求項6】
 
シリコン、ガラス、シリコーンゴム、プラスチックおよび金属からなる群より選択されるいずれかにより構成されていることを特徴とする請求項1~5のいずれか1項に記載の基板。

【請求項7】
 
上記構造物は、リソグラフィー法を用いて形成されたものであることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載の基板。

【請求項8】
 
請求項1~7のいずれか1項に記載の基板を備えていることを特徴とする細胞培養装置。

【請求項9】
 
請求項1~7のいずれか1項に記載の基板を備えており、
上記基板は、上記接着領域を複数備えており、かつ、複数の上記接着領域の各々に細胞が固定されていることを特徴とする細胞チップ。

【請求項10】
 
請求項1~7のいずれか1項に記載の基板を用いて細胞を培養する培養工程を含むことを特徴とする培養方法。

【請求項11】
 
上記基板は、上記阻害領域に取り囲まれた上記接着領域を複数備えており、
上記培養工程は、複数の上記接着領域の各々において、それぞれ異なる種類の細胞を培養するものであることを特徴とする請求項10に記載の培養方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2010018665thum.jpg
State of application right Registered
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