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HIGHLY EFFICIENT ESTABLISHMENT METHOD OF IPS CELL

Patent code P130009689
File No. S2013-0284-N0
Posted date Jul 23, 2013
Application number P2012-266178
Publication number P2014-110770A
Patent number P6128511
Date of filing Dec 5, 2012
Date of publication of application Jun 19, 2014
Date of registration Apr 21, 2017
Inventor
  • (In Japanese)本田 雅規
  • (In Japanese)鳥海 拓
Applicant
  • (In Japanese)学校法人日本大学
Title HIGHLY EFFICIENT ESTABLISHMENT METHOD OF IPS CELL
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a more highly efficient iPS cell-establishment method by focusing on a dental pulp-derived cell as a somatic cell source.
SOLUTION: Contacting a tooth root dental pulp-derived cell with a nucleus initialization substance provides a method for producing an iPS cell having more reliable pluripotency with iPS establishment efficient being several times (2 to 5 times) higher.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

iPS細胞は、体細胞に特定の遺伝子を導入することにより、様々な組織に分化できる多能性細胞としたものである。iPS細胞はES細胞(胚性幹細胞)に代わる多能性細胞として近年非常に注目されているが、樹立効率が極めて低いという問題点があり、少しでも樹立効率の高いiPS細胞の樹立方法を見出すことが重要な課題となっている。

このような樹立効率の高いiPS細胞樹立方法として例えば特許文献1の技術がすでに知られている。

特許文献1は、歯髄由来細胞は皮膚由来線維芽細胞よりも高効率でiPS細胞を樹立できることを開示している。本文献においては、入手が容易な歯髄を出発材料とすると従来の皮膚由来線維芽細胞を出発材料とする場合より高効率でiPS細胞を樹立できることが開示されている。

なお、特許文献2は、歯髄が未分化多能性細胞を含むことを開示しているが、遺伝子を導入して多能性を誘導する技術ではなく、そこで示されている多能性は歯及び歯周辺組織に限られている。

このように歯髄を利用したiPS細胞の製造技術はすでに知られているものの、歯髄をさらに複数の部位に分けてiPS細胞樹立に関する特性を比較検討するという発想は全く含んでいなかった。

すなわち、特許文献1の技術は、歯髄全体をまるごと粉砕・酵素処理するものであり(すなわち出発材料の大部分が歯冠部由来であり)、歯髄組織がiPS細胞樹立により適した部位と適さない部位にさらに分けられるという概念は一切示唆されていない。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、歯髄組織のうち特に歯根部歯髄に由来する細胞を用いてiPS細胞(人工多能性幹細胞)を高効率で樹立する方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
歯根部歯髄に由来する単離された細胞に核初期化物質を接触させることを含む、iPS細胞の製造方法。

【請求項2】
 
核初期化物質が、Oct3/4, Klf4およびSox2またはそれらをコードする核酸である、請求項1記載の方法。

【請求項3】
 
核初期化物質が、Oct3/4, Klf4, Sox2およびc-Mycまたはそれらをコードする核酸である、請求項1記載の方法。

【請求項4】
 
歯根部歯髄に由来する単離された細胞が、ヒト乳歯の歯根部歯髄由来間葉系細胞である、請求項1~3のいずれかに記載の方法。

【請求項5】
 
iPSを製造するための体細胞ソースとしての、歯根部歯髄に由来する単離された細胞の使用。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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