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(In Japanese)光学活性エステルの製造方法及び光学活性カルボン酸の製造方法

Patent code P130009826
Posted date Aug 13, 2013
Application number P2010-502778
Patent number P5435656
Date of filing Mar 4, 2009
Date of registration Dec 20, 2013
International application number JP2009054012
International publication number WO2009113428
Date of international filing Mar 4, 2009
Date of international publication Sep 17, 2009
Priority data
  • P2008-061512 (Mar 11, 2008) JP
  • P2008-087223 (Mar 28, 2008) JP
  • P2008-260902 (Oct 7, 2008) JP
Inventor
  • (In Japanese)椎名 勇
  • (In Japanese)中田 健也
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東京理科大学
Title (In Japanese)光学活性エステルの製造方法及び光学活性カルボン酸の製造方法
Abstract (In Japanese)ラセミのカルボン酸の一方のエナンチオマーを高選択的にエステル化して光学活性エステルを製造するとともに、他方のエナンチオマーである光学活性カルボン酸を製造する方法を提供する。
ラセミのカルボン酸と特定のアルコール又はフェノール誘導体とを、安息香酸無水物又はその誘導体とテトラミソール、ベンゾテトラミソール等の触媒との存在下で反応させ、ラセミのカルボン酸のうち一方のエナンチオマーを選択的にエステル化することにより、光学活性エステルを製造するとともに光学活性カルボン酸を製造する。
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

光学活性エステルや光学活性カルボン酸は、医薬品、生理活性物質の中間体、天然物合成の中間体等として、様々な分野に使用されている。

従来、光学活性エステルの製造方法としては、テトラミソール(tetramisole)又はベンゾテトラミソール(benzotetramisole)を触媒として用い、酸無水物の存在下でラセミの2級ベンジル性アルコールから製造する方法が知られている(非特許文献1を参照)。また、ベンゾテトラミソールを触媒として用い、酸無水物の存在下でラセミのプロパルギル性アルコールから光学活性エステルを製造する方法も知られている(非特許文献2を参照)。しかしながら、これらの製造方法では、酸無水物の構造が極めて限定されているなど、基質一般性に乏しいという問題があった。そこで、本発明者らは、テトラミソール又はベンゾテトラミソールを触媒として用い、安息香酸無水物又はその誘導体の存在下でラセミの2級ベンジル性アルコールと遊離のカルボン酸とを反応させて光学活性エステルを製造する方法を既に提案している(非特許文献3を参照)。

一方、光学活性カルボン酸の製造方法としては、光学活性アミンを分割剤として用い、ラセミのカルボン酸と分割剤とのジアステレオマー塩を晶析分割する方法が知られている(特許文献1等を参照)。しかしながら、この製造方法は基質特異性が高く、カルボン酸の構造に適した光学活性アミンの同定や再結晶溶媒の選択が困難であるという問題があった。また、数回に及ぶ分割を繰り返すことになるため、操作が煩雑であった。
【非特許文献1】
Birman, V. B.; Li, X.; Org. Lett.; 2006, 7, p.1351-1354
【非特許文献2】
Birman, V. B.; Guo, L.; Org. Lett.; 2006, 21, p.4859-4861
【非特許文献3】
Shiina, I.; Nakata, K.; Tetrahedron Lett.; 2007, 48, p.8314-8317
【特許文献1】
特開平9-143101号公報

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、光学活性エステルの製造方法及び光学活性カルボン酸の製造方法に関し、より詳細には、ラセミのカルボン酸の一方のエナンチオマーを高選択的にエステル化して光学活性エステルを製造するとともに、他方のエナンチオマーである光学活性カルボン酸を製造する方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
ラセミのカルボン酸と、下記式(a)で表されるアルコール又は下記式(b)で表されるフェノール誘導体とを、安息香酸無水物又はその誘導体と下記式(c)~(f)のいずれかで表される触媒との存在下で反応させ、前記ラセミのカルボン酸のうち一方のエナンチオマーを選択的にエステル化することを特徴とする光学活性エステルの製造方法。
【化1】
 
(省略)
(式(a)中、Raは置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基、アントリル基、又はフェナントリル基を示す。)
【化2】
 
(省略)
(式(b)中、Rbは置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基、アントリル基、又はフェナントリル基を示し、nは1~5の整数を示す。複数のRbが存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。)
【化3】
 
(省略)
(式(c)~(f)中、Xは下記の置換基
【化4】
 
(省略)
のいずれかを示し、Rは保護基を示す。)

【請求項2】
 
前記ラセミのカルボン酸が下記式(g)で表されることを特徴とする請求項1記載の光学活性エステルの製造方法。
【化5】
 
(省略)
(式(g)中、Rg1、Rg2は互いに異なる有機基を示す。)

【請求項3】
 
前記式(g)中、不斉炭素と結合するRg1及びRg2の炭素原子の一方は、多重結合により他の原子と結合していることを特徴とする請求項2記載の光学活性エステルの製造方法。

【請求項4】
 
前記式(b)中、Rbがナフチル基であり、フェノールの2,6位に置換していることを特徴とする請求項1から3のいずれか記載の光学活性エステルの製造方法。

【請求項5】
 
ラセミのカルボン酸と、下記式(a)で表されるアルコール又は下記式(b)で表されるフェノール誘導体とを、安息香酸無水物又はその誘導体と下記式(c)~(f)のいずれかで表される触媒との存在下で反応させ、前記ラセミのカルボン酸のうち一方のエナンチオマーを選択的にエステル化し、エステル化されていない他方のエナンチオマーとして光学活性カルボン酸を得ることを特徴とする光学活性カルボン酸の製造方法。
【化6】
 
(省略)
(式(a)中、Raは置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基、アントリル基、又はフェナントリル基を示す。)
【化7】
 
(省略)
(式(b)中、Rbは置換基を有していてもよいフェニル基、ナフチル基、アントリル基、又はフェナントリル基を示し、nは1~5の整数を示す。複数のRbが存在する場合、それらは同一であっても異なっていてもよい。)
【化8】
 
(省略)
(式(c)~(f)中、Xは下記の置換基
【化9】
 
(省略)
のいずれかを示し、Rは保護基を示す。)
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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