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POROUS ZIRCONIUM OXIDE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME commons

Patent code P130009873
Posted date Aug 13, 2013
Application number P2007-084894
Publication number P2008-239436A
Patent number P4888850
Date of filing Mar 28, 2007
Date of publication of application Oct 9, 2008
Date of registration Dec 22, 2011
Inventor
  • (In Japanese)阿部 正彦
  • (In Japanese)松本 睦良
  • (In Japanese)酒井 秀樹
  • (In Japanese)酒井 俊郎
  • (In Japanese)大久保 貴広
  • (In Japanese)柴田 裕史
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東京理科大学
Title POROUS ZIRCONIUM OXIDE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME commons
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing porous zirconium oxide having a crystal structure in a wall film and usable as a solid acid catalyst.
SOLUTION: A zirconium oxide formation reaction is allowed to proceed by reacting a zirconium salt with micelle prepared by adding an organic compound having a sulfonic acid group to a cationic surfactant as a template.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

光触媒機能や吸着機能等の機能性表面を有する材料において、その機能を向上させるために表面積を大きくした多孔質材料が注目されている。中でも、均一で規則的な細孔の配列を有する多孔質材料、所謂メソポーラス材料と呼ばれている材料は、高い比表面積や規則的な細孔構造を有するため、触媒や触媒担体としての応用が検討されている。また、酸化ジルコニウムは、耐酸性及びアルカリ性に優れている触媒材料として注目を集めている。特に硫酸イオンを担持した酸化ジルコニウムは、固体超強酸としての機能を発現するため、硫酸のような液体酸の代替触媒として期待されている。
このようなことから、酸化ジルコニウムの多孔質材料、特にメソポーラス材料への応用が検討されてきた。

非特許文献1には、塩化酸化ジルコニウム8水和物を水酸化アンモニウムに溶解させることにより、酸化ジルコニウムゲルを調製し、その後硫酸アンモニア水溶液を添加することにより硫酸イオンを担持した酸化ジルコニウムを調製する方法が開示されている。
【非特許文献1】
Bull.Chem.Soc.Jpn.,69.1191-1194(1996)

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、壁膜に結晶構造を有し、固体酸触媒として使用可能な多孔質酸化ジルコニウムの製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
壁膜が結晶構造を有する多孔質酸化ジルコニウムの製造方法であって、
カチオン性界面活性剤と、スルホン酸基を有する有機化合物と、ジルコニウム塩と、を水中で混合する混合工程を有し、
前記カチオン性界面活性剤が、長鎖基の炭素数が10~20個であるモノ長鎖アルキル四級アンモニウム塩である多孔質酸化ジルコニウムの製造方法。

【請求項2】
 
前記スルホン酸基を有する有機化合物は、アルキル硫酸及びその塩、芳香族スルホン酸及びその塩、からなる群から選ばれる少なくともいずれか1種の化合物である請求項1に記載の多孔質酸化ジルコニウムの製造方法。

【請求項3】
 
前記ジルコニウム塩は、硫酸塩、オキシ塩化物、リン酸塩、酢酸塩及び硝酸塩からなる群から選ばれる少なくともいずれか1種である請求項1又は2に記載の多孔質酸化ジルコニウムの製造方法。

【請求項4】
 
前記カチオン性界面活性剤1モルに対する前記有機化合物の混合モル量は、0モルよりも大きく0.5モル以下である請求項1から3いずれかに記載の多孔質酸化ジルコニウムの製造方法。

【請求項5】
 
前記混合工程における混合温度は、50℃から80℃である請求項1から4いずれかに記載の多孔質酸化ジルコニウムの製造方法。

【請求項6】
 
前記混合工程を経た後に、前記カチオン性界面活性剤及び前記有機化合物を除去する除去工程を更に有する請求項1から5いずれかに記載の多孔質酸化ジルコニウムの製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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