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SAMPLE HOLDING DEVICE, AND SAMPLE ANALYSIS METHOD meetings

Patent code P130010013
File No. KG0104-JP01
Posted date Oct 28, 2013
Application number P2012-071442
Publication number P2013-205077A
Patent number P5904835
Date of filing Mar 27, 2012
Date of publication of application Oct 7, 2013
Date of registration Mar 25, 2016
Inventor
  • (In Japanese)中沢 寛光
  • (In Japanese)加藤 知
Applicant
  • (In Japanese)学校法人関西学院
Title SAMPLE HOLDING DEVICE, AND SAMPLE ANALYSIS METHOD meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sample holding device for performing the measurement by beam irradiation with an environment with which front and rear faces of a sample contact separated.
SOLUTION: A sample holding device 1 includes a holder holding a sample 99. The holder includes: a front-side environmental chamber 18 formed in a manner to contact with a front face of the sample 99; a back-side environmental chamber 28 formed in a manner to contact with a rear face of the sample 99; a beam incidence port 16 for letting a beam enter the sample 99; and a beam outgoing port 26 for letting the beam go out of the sample 99.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

従来、電磁波または粒子線などのビームを試料に照射して、試料を分析する試料分析方法が知られている。精度の高い測定を行うためには、ビームが照射される位置が一定になるように、試料を保持する必要がある。

ビーム照射による測定において、試料の環境(媒体、温度、湿度、圧力、電場、または磁場など)を変化させながら測定をしたい場合がある。例えば、試料に溶液を作用させるため、試料室に溶液を流通させたい場合がある。この場合、試料保持装置は、試料室に溶液を流通させることができ、かつ、試料を動かないように固定できる構造が求められる。

特開2008-64463号公報(特許文献1)には、ビーム照射を行う軟質材料の試料を測定装置に動かないように簡易に固定することができ、より試料に溶液を均一になるように流した状態を簡易に維持して計測を行うビーム照射による軟質材料の構造解析方法および軟質材料保持装置、が記載されている。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、試料保持装置および試料分析方法に関し、さらに詳しくは、ビーム照射のために試料を保持する試料保持装置およびビームを照射して試料を分析する試料分析方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
試料を保持するホルダを備え、
前記ホルダは、
前記試料の表面に接するように形成される表側環境室と、
前記試料の裏面に接するように形成される裏側環境室と、
前記試料へビームを入射させるためのビーム入射口と、
前記試料からビームを出射させるためのビーム出射口と、
前記表側環境室および前記裏側環境室の一方へ通じ、外部へ開口する環境連絡通路とを含む、試料保持装置。

【請求項2】
 
請求項1に記載の試料保持装置であって、
前記ホルダと前記試料との境界がシールされる、試料保持装置。

【請求項3】
 
請求項1または2に記載の試料保持装置であって、
前記ホルダはさらに、
前記試料の表側に配置される表側部材と、
前記試料の裏側に配置され、前記表側部材に着脱可能な裏側部材とを含み、
前記表側環境室は前記表側部材内に形成され、前記裏側環境室は前記裏側部材内に形成され、前記ビーム入射口および前記ビーム出射口の一方は前記表側部材内に形成され、前記ビーム入射口および前記ビーム出射口の他方は前記裏側部材内に形成される、試料保持装置。

【請求項4】
 
請求項1~3のいずれか1項に記載の試料保持装置であってさらに、
前記試料と接触して配置され、前記試料の実験条件を制御する制御部材を備える、試料保持装置。

【請求項5】
 
請求項4に記載の試料保持装置であって、
前記制御部材は、前記ホルダの熱伝導率よりも高い熱伝導率を有する、試料保持装置。

【請求項6】
 
請求項4に記載の試料保持装置であって、
前記制御部材は、前記ホルダの電気抵抗よりも低い電気抵抗を有する、試料保持装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2012071442thum.jpg
State of application right Registered
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