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低反射材の製造方法 新技術説明会

国内特許コード P160013125
整理番号 P15-014
掲載日 2016年7月20日
出願番号 特願2016-109908
公開番号 特開2017-215506
出願日 平成28年6月1日(2016.6.1)
公開日 平成29年12月7日(2017.12.7)
発明者
  • 瀧 健太郎
  • 新沼 寛司
出願人
  • 国立大学法人金沢大学
発明の名称 低反射材の製造方法 新技術説明会
発明の概要 【課題】透明な基材表面に微細な低反射率構造を形成する低反射材の製造方法の提供を目的とする。
【解決手段】非晶構造のポリカーボネート基材表面に紫外線硬化性樹脂のモノマーを塗布し、前記ポリカーボネート基材表面に微細凸状の結晶部を形成するステップと、前記紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射し硬化塗膜を形成するステップと、剥離手段を用いて前記硬化塗膜を前記微細凸状の結晶部から剥離するステップとを有することを特徴とする。
【選択図】 図1
従来技術、競合技術の概要


外光等の映り込みを防止した低反射率のフィルムや基材としては、特許文献1に開示するように表面にブラスト粒子を衝打しランダムな凹凸を形成する方法や、特許文献2に開示するようにフィルム中にナノサイズ微粒子を分散させる方法が知られている。
しかし、いずれも工程が複雑で高コストになる。

産業上の利用分野


本発明は、各種電子機器のディスプレイ等の表面に外光等の映り込みを防止する防眩性の低反射材の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
非晶構造のポリカーボネート基材表面に紫外線硬化性樹脂のモノマーを塗布し、前記ポリカーボネート基材表面に微細凸状の結晶部を形成するステップと、
前記紫外線硬化性樹脂に紫外線を照射し硬化塗膜を形成するステップと、
剥離手段を用いて前記硬化塗膜を前記微細凸状の結晶部から剥離するステップとを有することを特徴とする低反射材の製造方法。

【請求項2】
前記ポリカーボネートの溶解度パラメータSPを10.8(cal/cm1/2とした場合に、前記紫外線硬化性樹脂は溶解度パラメータSPが7.0~9.0(cal/cm1/2の範囲であることを特徴とする請求項1記載の低反射材の製造方法。

【請求項3】
前記剥離手段は高圧のCO下で紫外線を照射し、前記紫外線硬化性樹脂を硬化させながら発泡剥離させるものであることを特徴とする請求項1又は2記載の低反射材の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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