TOP > 国内特許検索 > 伸縮性導電膜の製造方法

伸縮性導電膜の製造方法 UPDATE コモンズ

国内特許コード P160013143
整理番号 N16002
掲載日 2016年7月27日
出願番号 特願2016-118697
公開番号 特開2017-224477
出願日 平成28年6月15日(2016.6.15)
公開日 平成29年12月21日(2017.12.21)
発明者
  • 金子 克美
  • 秋山 慎吾
  • ラドバン クコバット
出願人
  • 国立大学法人信州大学
発明の名称 伸縮性導電膜の製造方法 UPDATE コモンズ
発明の概要 【課題】 伸張率が100%を超えるようなきわめて大きな伸長度の場合であっても導電性が大きく変動しない伸縮性導電膜を容易に提供する。
【解決手段】 伸縮性を有するベースフィルム26の表面にカーボンナノチューブからなる導電膜が形成された伸縮性導電膜の製造方法であって、転写板22にカーボンナノチューブの分散剤を塗布する工程と、前記分散剤を塗布した後、転写板22にカーボンナノチューブの分散液を塗布する工程と、転写板22からカーボンナノチューブの薄膜24をベースフィルム26に転写する転写工程と、を備えることを特徴とする。
【選択図】 図2
従来技術、競合技術の概要


最近の医療では予防医学という概念が強く民間にも定着しつつある。その背景には人口の高齢化に伴った健康志向が挙げられる。老後も自立して健やかに過ごすことは多くの人々が望むものである。そこで注目されているのがウェアラブルデバイスである。しかしながら、身に着けるという観点から、ウェアラブルデバイスには多くの課題がある。例えば、身体は可動域が大きいことから、より柔軟性・伸縮性がある材料を使うことが必要不可欠であり、あらゆるデバイスに用いられる電極(導電膜)に伸縮性を付与するという課題がある。



柔軟性、可撓性を備える導電材料には、柔軟性を有する高分子材料にカーボンブラックやカーボンナノチューブを含有させたものや、導電性プラスチックのような基材そのものが導電性を有するものからなるもの等がある。
しかしながら、従来の導電性材料とくに電子デバイスに用いられる電極、導電膜は、伸張させたときの導電性が十分ではない。そこで、伸張時にも電気抵抗が増加しにくい導電膜として、小径の繊維状炭素材料に加えて、所定の大きさの薄片状炭素材料を配合した導電性組成物(特許文献1)、比較的大径の繊維状炭素材料にカーボンブラックを配合した導電性組成物(特許文献2)が提案されている。

産業上の利用分野


本発明は伸縮性導電膜の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
伸縮性を有するベースフィルムの表面にカーボンナノチューブからなる導電膜が形成された伸縮性導電膜の製造方法であって、
転写板にカーボンナノチューブの分散剤を塗布する工程と、
前記分散剤を塗布した後、前記転写板にカーボンナノチューブの分散液を塗布する工程と、
前記転写板からカーボンナノチューブの薄膜をベースフィルムに転写する転写工程と、
を備えることを特徴とする伸縮性導電膜の製造方法。

【請求項2】
前記転写板にカーボンナノチューブの分散液を塗布する工程の後、酸処理により前記転写板に形成された被膜から前記分散剤を溶出し、次いで水洗浄し、
前記転写板から前記ベースフィルムにカーボンナノチューブの薄膜を転写することを特徴とする請求項1記載の伸縮性導電膜の製造方法。

【請求項3】
前記転写板にカーボンナノチューブの分散剤を塗布する工程と、前記転写板にカーボンナノチューブの分散液を塗布する工程においては、前記転写板を室温以上に加温することを特徴とする請求項1または2記載の伸縮性導電膜の製造方法。

【請求項4】
前記分散剤として、
酢酸亜鉛、酢酸ニッケル、酢酸銅、酢酸銀、及び酢酸パラジウムからなる群から選択される一つと、硝酸アルミニウム、硝酸鉄、硝酸銅、及び硝酸亜鉛からなる群から選択される一つとを含む分散剤を使用することを特徴とする請求項1~3のいずれか一項記載の伸縮性導電膜の製造方法。

【請求項5】
前記カーボンナノチューブの分散剤として、前記カーボンナノチューブの分散液を調製する際に使用する分散剤と同一の分散剤を使用することを特徴とする請求項4記載の伸縮性導電膜の製造方法。

【請求項6】
前記転写板に形成されたカーボンナノチューブの薄膜を、前記転写板からベースフィルムに転写する転写工程を複数回繰り返し、カーボンナノチューブの薄膜が複数層に積層された導電膜を備える伸縮性導電膜を製造することを特徴とする請求項1~5のいずれか一項記載の伸縮性導電膜の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2016118697thum.jpg
出願権利状態 公開
ライセンスをご希望の方、特許の内容に興味を持たれた方は、下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close