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METHOD FOR MANUFACTURING ENDLESS PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING RESIN PATTERN MOLDING, ENDLESS MOLD, AND OPTICAL ELEMENT commons meetings

Patent code P160013308
File No. T2009-025
Posted date Sep 23, 2016
Application number P2009-190533
Publication number P2011-043590A
Patent number P5544789
Date of filing Aug 19, 2009
Date of publication of application Mar 3, 2011
Date of registration May 23, 2014
Inventor
  • (In Japanese)谷口 淳
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東京理科大学
Title METHOD FOR MANUFACTURING ENDLESS PATTERN, METHOD FOR MANUFACTURING RESIN PATTERN MOLDING, ENDLESS MOLD, AND OPTICAL ELEMENT commons meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing an SOG (spin-on-glass) endless pattern, which is applicable to an endless mold or the like, by electron beam or ion beam radiation, to provide a method for manufacturing a resin pattern molding by using an SOG endless mold; to provide an SOG endless mold, and to provide an optical element.
SOLUTION: The method for manufacturing the SOG endless pattern includes a process in which an SOG resist liquid film is formed on an aluminum substrate which is endless in the circumferential direction; a process in which the aluminum substrate having the SOG resist liquid film is heated to burn the SOG resist; a process in which the aluminum substrate having the SOG resist is cooled after the burning; a process in which the aluminum substrate having the SOG resist is rotated in the rotational direction after the cooling; a process in which the SOG resist on the substrate is irradiated with an electron beam or an ion beam; and a process in which part of the SOG resist is removed by irradiation or development after the irradiation.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

ナノインプリント技術において、より一層の効率化、低コスト化、大面積化をはかる技術展開としてローラ転写方式が注目されている。

ローラ転写方式で用いられるモールドの従来の作製方法としては、めっきや樹脂などの微細パターンを有する膜を円筒状基板に巻き付ける方法や、機械加工による方法、レーザー加工による方法などが存在する。

しかし、前記巻き付けの方法では、つなぎ目が発生するという問題点がある。前記機械加工による方法では、加工工具が摩耗するため長時間加工すると形状が変化し、また溝状のパターンしか形成できない。前記レーザー加工の方法では、ビーム径をナノオーダーまで絞ることができず、ナノオーダーのパターンを有する無端状モールドの作製は困難である。

一方、電子ビームの照射方法としては、ディスクを回転させながら電子ビームを照射する方法(例えば、非特許文献1参照)や、曲面上に電子ビームを照射する方法(例えば、非特許文献2参照)が提案されている。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、SOGの無端状モールドを形成する無端状パターンの製造方法、樹脂パターン成形品の製造方法、無端状モールド、及び光学素子に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
円周方向において無端のアルミニウム基板上に、SOG(Spin-On-Grass)レジスト液膜を付与する工程と、
前記SOGレジスト液膜を有するアルミニウム基板を加熱してSOGレジストを焼成する工程と、
前記焼成後、SOGレジストを有するアルミニウム基板を冷却する工程と、
前記冷却後、SOGレジストを有するアルミニウム基板を回転方向に回転させる工程と、
前記基板上のSOGレジストに電子ビーム又はイオンビームを照射する工程と、
前記照射により又は前記照射後の現像により、前記SOGレジストの一部を除去する工程と、
を有する無端状パターンの製造方法。

【請求項2】
 
前記基板を回転方向に回転させながら、前記電子ビーム又はイオンビームを前記SOGレジストに照射する請求項1に記載の無端状パターンの製造方法。

【請求項3】
 
前記電子ビーム又はイオンビームの前記基板に対する入射角を、基板の回転方向でプラス、逆回転方向でマイナスとしたとき、前記入射角が、-60°以上+60°以下である請求項1又は請求項2に記載の無端状パターンの製造方法。

【請求項4】
 
請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の製造方法により形成された無端状モールド。

【請求項5】
 
請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の製造方法により得られた無端状モールドを成形用の型として用い、該無端状モールドに樹脂を押し付けて型を転写する工程と、
押し付けた前記無端状モールドと前記樹脂とを剥離する工程と、
を有する樹脂パターン成形品の製造方法。

【請求項6】
 
請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の製造方法により得られた無端状モールドを有する光学素子。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Registered
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