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METHOD FOR PRODUCING GRAPHENE/SILICA COMPOSITE AND GRAPHENE/SILICA COMPOSITE PRODUCED BY THE METHOD meetings

Patent code P170013647
File No. 14056
Posted date Jan 25, 2017
Application number P2015-000697
Publication number P2016-124762A
Patent number P6437825
Date of filing Jan 6, 2015
Date of publication of application Jul 11, 2016
Date of registration Nov 22, 2018
Inventor
  • (In Japanese)今榮 一郎
  • (In Japanese)播磨 裕
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人広島大学
Title METHOD FOR PRODUCING GRAPHENE/SILICA COMPOSITE AND GRAPHENE/SILICA COMPOSITE PRODUCED BY THE METHOD meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a graphene/silica composite having sufficient mechanical strength, and to provide a graphene/silica composite produced by the method.
SOLUTION: The method for producing a graphene/silica composite comprises steps of: preparing an aqueous dispersion of graphene oxide in which graphene oxide is dispersed in water; preparing a graphene oxide/silica composite by a sol-gel reaction by mixing and stirring the aqueous dispersion of graphene oxide and tetraethyl orthosilicate; and preparing a graphene/silica composite by reducing the graphene oxide/silica composite.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

グラフェンは、二次元平面内において、炭素原子が正六角形の頂点に格子状に並んだ、1原子の厚さを有するものである。このグラフェンは、優れた電気的特性を有することから、次世代の電子材料として注目を集めており、光学、センサ、医療等の様々な分野において研究開発が行われている。

例えば、グラフェンと、ポリエチレンオキシドおよびポリプロピレンオキシドから構成される界面活性剤とを複合して作製したグラフェンシートが提案されている。そして、このグラフェンシートを、色素増感太陽電池の対電極材料として使用することにより、従来、用いられている白金電極と同レベルの変換効率を有する素子を作製することができると記載されている(例えば、非特許文献1参照)。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、導電性材料として使用されるグラフェン/シリカ複合体の製造方法およびその方法により製造されたグラフェン/シリカ複合体に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
酸化グラフェンを水に分散させた酸化グラフェン水分散液を作製する工程と、
前記酸化グラフェン水分散液とテトラエチルオルソシリケートのみを混合して攪拌を行い、ゾル-ゲル反応により、酸化グラフェン/シリカ複合体を作製する工程と、
前記酸化グラフェン/シリカ複合体を還元して、グラフェン/シリカ複合体を作製する工程と
を備えることを特徴とするグラフェン/シリカ複合体の製造方法。

【請求項2】
 
前記酸化グラフェン水分散液の濃度が、1~25mg/mLであることを特徴とする請求項1に記載のグラフェン/シリカ複合体の製造方法。

【請求項3】
 
前記攪拌を行う時間が、6~24時間であることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のグラフェン/シリカ複合体の製造方法。

【請求項4】
 
前記還元は、不活性雰囲気中で行う熱還元であることを特徴とする請求項1~請求項3のいずれか1項に記載のグラフェン/シリカ複合体の製造方法。

【請求項5】
 
前記還元の温度が、200~1100℃であることを特徴とする請求項4に記載のグラフェン/シリカ複合体の製造方法。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2015000697thum.jpg
State of application right Registered


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