TOP > 国内特許検索 > セルロースナノファイバー複合膜およびその製造方法

セルロースナノファイバー複合膜およびその製造方法

国内特許コード P180014813
整理番号 106
掲載日 2018年2月27日
出願番号 特願2016-111436
公開番号 特開2017-218470
出願日 平成28年6月3日(2016.6.3)
公開日 平成29年12月14日(2017.12.14)
発明者
  • 大山 秀子
  • 上谷 幸治郎
  • 岡田 拓巳
出願人
  • 学校法人立教学院
発明の名称 セルロースナノファイバー複合膜およびその製造方法
発明の概要 【課題】高熱伝導性を備えるセルロースナノファイバー複合膜を提供する。
【解決手段】セルロースナノファイバー含有膜、およびその両面に積層された多孔質層を備える積層体を調製する積層工程、前記多孔質層を介して液状硬化性樹脂組成物を前記セルロースナノファイバー含有膜に含浸させる含浸工程、ならびに前記液状硬化性樹脂組成物を硬化させた後に前記多孔質層を剥離する硬化剥離工程、を備える方法によってセルロースナノファイバー複合膜を製造する。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


セルロースファイバーをナノレベルにまで解繊して得られるセルロースナノファイバー(以下「CNF」ともいう)は、セルロースの伸びきり鎖結晶からなる高結晶性ナノ繊維であり、高強度、高弾性、低熱膨張性等の優れた特性を有する。さらに、CNFを製膜して得られる紙状シートは、高い柔軟性、高い透明性、高い熱寸法安定性(低い熱膨張係数)を有するため、電子ペーパーやフレキシブル太陽電池等の次世代の薄型電子基板材料への展開が期待されている。一方、小型化かつ高性能化が進む薄型電子デバイスでは、発熱量が増大し、熱暴走や熱破壊が問題となっている。従来のコンピューター等で使用されるヒートシンク(放熱器)は嵩高い部材であるため薄型機器には搭載できない。すなわち、薄型デバイスの排熱を効率化し、高機能を維持し発揮させるためには、電子基板そのものに熱拡散性が求められる。そのため、高透明性、高絶縁性、高柔軟性、低熱膨張性、かつ高熱伝導性を備える材料を目指した開発が行われている。例えば、特許文献1~4および非特許文献1~3には、CNF膜を液状硬化性樹脂に含浸させてCNF複合膜を製造する技術が開示されている。

産業上の利用分野


本発明はセルロースナノファイバー複合膜およびその製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
セルロースナノファイバー含有膜、およびその両面に積層された多孔質層を備える積層体を調製する積層工程、
前記多孔質層を介して液状硬化性樹脂組成物を前記セルロースナノファイバー含有膜に含浸させる含浸工程、ならびに
前記液状硬化性樹脂組成物を硬化させた後に前記多孔質層を剥離する硬化剥離工程、を備える、
セルロースナノファイバー複合膜の製造方法。

【請求項2】
前記硬化剥離工程が、反応率50~90%の硬化反応を行った後に前記多孔質層を剥離する工程を含む、請求項1に記載の製造方法。

【請求項3】
前記硬化剥離工程が、単離されたセルロースナノファイバー含有膜を後硬化する工程をさらに含む、請求項2に記載の製造方法。

【請求項4】
前記液状硬化性樹脂組成物が透明な硬化物を与える組成物である、請求項1~3のいずれかに記載の製造方法。

【請求項5】
前記液状硬化性樹脂組成物が光硬化性樹脂組成物である、請求項1~4のいずれかに記載の製造方法。

【請求項6】
樹脂マトリックスおよび当該樹脂マトリックス中に存在するセルロースナノファイバーを含む、セルロースナノファイバー複合膜であって、
当該膜を厚み方向に3等分した各層のうち、繊維濃度が最大になる層の繊維濃度をCmax、他の2つの層の繊維濃度をそれぞれCa、Cbとするとき、
(Cmax-Ca)/Cmax≦0.5かつ
(Cmax-Cb)/Cmax≦0.5
を満たす、セルロースナノファイバー複合膜。

【請求項7】
周期加熱放射測温法により測定される面内方向の熱伝導率が0.1W/mK以上である、請求項6に記載のセルロースナノファイバー複合膜。

【請求項8】
50μmの厚みの膜を用いて測定した600nmの平行光線透過率が50~90%である、請求項6または7に記載のセルロースナノファイバー複合膜。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

※ 画像をクリックすると拡大します。

JP2016111436thum.jpg
出願権利状態 公開
掲載情報について、詳しくお知りになりたい方は下記「問合せ先」まで直接お問い合わせください。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close