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PROCESS FOR PRODUCING SILSESQUIOXANE HAVING REACTIVE SUBSTITUENT

Patent code P180015237
File No. S2017-0146-N0
Posted date Aug 31, 2018
Application number P2016-232998
Publication number P2018-090502A
Date of filing Nov 30, 2016
Date of publication of application Jun 14, 2018
Inventor
  • (In Japanese)海野 雅史
  • (In Japanese)江川 泰暢
  • (In Japanese)島田 茂
  • (In Japanese)佐藤 一彦
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人群馬大学
  • (In Japanese)国立研究開発法人産業技術総合研究所
Title PROCESS FOR PRODUCING SILSESQUIOXANE HAVING REACTIVE SUBSTITUENT
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a process for producing silsesquioxane having reactive substituent, in particular, silsesquioxane that can produce Janus cube having reactive substituent on one side.
SOLUTION: Provided is a process for efficiently producing silsesquioxane formula (C) having Si-H as a reactive substituent by hydrolyzing the cyclic siloxane represented by the formula (B) to proceed with intramolecular dehydration condensation. (R1 each independently is a C1-20 hydrocarbon group; and X each independently is Cl, Br or I.).
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

構造が規制されたケイ素化合物は、高い物性が要求される材料への応用が期待されており、近年、その合成が盛んに研究されている。特にかご型のシルセスキオキサンは、その特異的な構造から高い耐熱性、耐酸化性、耐候性が見込まれており、様々な機能性材料、特に有機-無機ハイブリット材料の基幹化合物として注目を浴びている。
かご型のシルセスキオキサンの合成については、数多くの報告があり、環状シラノールからの合成も可能で(例えば、非特許文献1~5参照)、これまでに様々な有機基が導入されたかご型シルセスキオキサンが報告されている。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、シルセスキオキサンの製造方法に関し、より詳しくは反応性置換基を有するシルセスキオキサンの製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
水の存在下、下記式(B)で表される環状シロキサンから下記式(C)で表されるシルセスキオキサンを生成する反応工程を含む、シルセスキオキサンの製造方法。
【化1】
 
(省略)
(式(B)及び(C)中、R1はそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を、Xはそれぞれ独立して塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)

【請求項2】
 
下記式(A)で表される環状シロキサンとトリハロシランを反応させて下記式(B)で表される環状シロキサンを生成する準備工程を含む、請求項1に記載のシルセスキオキサンの製造方法。
【化2】
 
(省略)
(式(A)及び(B)中、R1はそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を、Xはそれぞれ独立して塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)

【請求項3】
 
下記式(B)で表される環状シロキサン。
【化3】
 
(省略)
(式(B)中、R1はそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を、Xはそれぞれ独立して塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)

【請求項4】
 
下記式(C)で表されるシルセスキオキサン。
【化4】
 
(省略)
(式(C)中、R1はそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を表す。)
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Published
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