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反応性置換基を有するシルセスキオキサンの製造方法 NEW

国内特許コード P180015237
整理番号 S2017-0146-N0
掲載日 2018年8月31日
出願番号 特願2016-232998
公開番号 特開2018-090502
出願日 平成28年11月30日(2016.11.30)
公開日 平成30年6月14日(2018.6.14)
発明者
  • 海野 雅史
  • 江川 泰暢
  • 島田 茂
  • 佐藤 一彦
出願人
  • 国立大学法人群馬大学
  • 国立研究開発法人産業技術総合研究所
発明の名称 反応性置換基を有するシルセスキオキサンの製造方法 NEW
発明の概要 【課題】反応性置換基を有するシルセスキオキサン、特に片面に反応性置換基を有するヤヌスキューブを製造することができるシルセスキオキサンの製造方法の提供。
【解決手段】式(B)で表される環状シロキサンを加水分解して分子内脱水縮合を進めることにより、反応性置換基としてSi-Hを有するシルセスキオキサン式(C)を効率良く製造する方法。



(Rは夫々独立にC1~20の炭化水素基;Xは夫々独立にCl、Br又はI)
【選択図】なし
従来技術、競合技術の概要


構造が規制されたケイ素化合物は、高い物性が要求される材料への応用が期待されており、近年、その合成が盛んに研究されている。特にかご型のシルセスキオキサンは、その特異的な構造から高い耐熱性、耐酸化性、耐候性が見込まれており、様々な機能性材料、特に有機-無機ハイブリット材料の基幹化合物として注目を浴びている。
かご型のシルセスキオキサンの合成については、数多くの報告があり、環状シラノールからの合成も可能で(例えば、非特許文献1~5参照)、これまでに様々な有機基が導入されたかご型シルセスキオキサンが報告されている。

産業上の利用分野


本発明は、シルセスキオキサンの製造方法に関し、より詳しくは反応性置換基を有するシルセスキオキサンの製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
水の存在下、下記式(B)で表される環状シロキサンから下記式(C)で表されるシルセスキオキサンを生成する反応工程を含む、シルセスキオキサンの製造方法。
【化1】



(式(B)及び(C)中、Rはそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を、Xはそれぞれ独立して塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)

【請求項2】
下記式(A)で表される環状シロキサンとトリハロシランを反応させて下記式(B)で表される環状シロキサンを生成する準備工程を含む、請求項1に記載のシルセスキオキサンの製造方法。
【化2】



(式(A)及び(B)中、Rはそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を、Xはそれぞれ独立して塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)

【請求項3】
下記式(B)で表される環状シロキサン。
【化3】



(式(B)中、Rはそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を、Xはそれぞれ独立して塩素原子、臭素原子、又はヨウ素原子を表す。)

【請求項4】
下記式(C)で表されるシルセスキオキサン。
【化4】



(式(C)中、Rはそれぞれ独立して炭素原子数1~20の炭化水素基を表す。)
国際特許分類(IPC)
Fターム
出願権利状態 公開
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