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FINE OPTICAL IMAGE GENERATION ELEMENT AND FINE OPTICAL IMAGE GENERATOR meetings

Patent code P180015289
File No. S2017-0172-N0
Posted date Sep 21, 2018
Application number P2016-244003
Publication number P2018-097284A
Date of filing Dec 16, 2016
Date of publication of application Jun 21, 2018
Inventor
  • (In Japanese)杉坂 純一郎
  • (In Japanese)安井 崇
  • (In Japanese)平山 浩一
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人北見工業大学
Title FINE OPTICAL IMAGE GENERATION ELEMENT AND FINE OPTICAL IMAGE GENERATOR meetings
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a fine optical image generation element and a fine optical image generator, capable of easily generating a desired fine optical image.
SOLUTION: A fine optical image generation element 100 has a fine structure part 120 in which a plurality of apertures 140 are arranged based on an arrangement pattern by combining at least 2 or more quasi-crystal patterns on the same plane. The fine structure part 120 has a light-shielding membrane 130 which shields a laser light and a plurality of apertures 140 which is arranged on the light-shielding membrane 130 and through which the laser light can pass. The quasi-crystal pattern is for example a pattern consisting of lattice points of a pen rose tile which is one of lattice structures of quasi-crystal.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

半導体の微細回路を製造するための加工技術としてフォトリソグラフィが知られている。フォトリソグラフィは、フォトマスクに形成した回路パターンを、感光材料(フォトレジスト)を塗布した基板上に投影することにより、基板上に回路パターンを転写する技術である。例えば、特許文献1には、マスクに形成された回路パターンの像を基板上に投影する投影光学系を備える投影露光装置が開示されている。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、微細光学像生成素子及び微細光学像生成装置に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
準結晶パターンを同一平面上で少なくとも二つ以上組み合わせた配置パターンに基づいて複数の凹部、凸部、又は開口部が配置された微細構造部を備える微細光学像生成素子。

【請求項2】
 
前記微細構造部は、電磁波を遮断する膜と、当該膜に設けられ、電磁波が通過可能な複数の開口部と、を備える、
請求項1に記載の微細光学像生成素子。

【請求項3】
 
前記膜を支持しており、電磁波を透過可能な基板を備える、
請求項2に記載の微細光学像生成素子。

【請求項4】
 
前記微細構造部は、基板の表面に当該基板と一体に形成された複数の凹部又は凸部である、
請求項1に記載の微細光学像生成素子。

【請求項5】
 
前記微細構造部を支持しており、電磁波を透過可能な基板を備え、
前記微細構造部は、前記基板の表面に設けられ、電磁波を遮断する複数の凸部である、
請求項1に記載の微細光学像生成素子。

【請求項6】
 
前記準結晶パターンは、ペンローズタイルの格子点からなるパターンである、
請求項1から5のいずれか1項に記載の微細光学像生成素子。

【請求項7】
 
それぞれの前記準結晶パターンは、前記準結晶パターンの中心点の位置、前記準結晶パターンの中心点を通って前記準結晶パターンに垂直な軸周りの回転角、又は前記準結晶パターンの格子定数の少なくとも1つが異なっている、
請求項1から6のいずれか1項に記載の微細光学像生成素子。

【請求項8】
 
前記準結晶パターンは、前記準結晶パターンの元となる準結晶の格子構造の格子点に部分的に設けられている、
請求項1から7のいずれか1項に記載の微細光学像生成素子。

【請求項9】
 
前記準結晶パターンは、互いの中心点が一致するようにフレネルゾーンプレートが重ねられたとき、前記フレネルゾーンプレートの暗輪帯に重なる格子点を除去したパターンである、
請求項8に記載の微細光学像生成素子。

【請求項10】
 
電磁波を照射する電磁波照射手段と、
前記電磁波照射手段からの電磁波を透過又は反射することにより微細光学像を生成する請求項1から9のいずれか1項に記載の微細光学像生成素子と、
を備える微細光学像生成装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
  • 2H195BA12
  • 2H195BB08
  • 2H195BB09
  • 2H195BB10
  • 2H195BB16
  • 2H195BB25
  • 2H195BB35
  • 2H195BC05
  • 2H197AA50
  • 2H197BA11
  • 2H197CA01
  • 2H197CA03
  • 2H197CA07
  • 2H197CA10
  • 2H197HA03
  • 2H197JA05
Drawing

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JP2016244003thum.jpg
State of application right Published


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