TOP > 国内特許検索 > 自立性高分子薄膜及びその製造方法、並びに、自立性高分子前駆体薄膜、それらからなる密閉容器及び内包剤の放出方法

自立性高分子薄膜及びその製造方法、並びに、自立性高分子前駆体薄膜、それらからなる密閉容器及び内包剤の放出方法 (未公開特許出願) NEW 新技術説明会

国内特許コード P180015320
整理番号 2017-041
掲載日 2018年10月3日
出願番号 特願2017-242440
出願日 平成29年12月19日(2017.12.19)
発明者
  • 松井 淳
  • 松永 康平
出願人
  • 国立大学法人山形大学
発明の名称 自立性高分子薄膜及びその製造方法、並びに、自立性高分子前駆体薄膜、それらからなる密閉容器及び内包剤の放出方法 (未公開特許出願) NEW 新技術説明会
発明の概要 接着剤成分であるアルキルアクリルアミドとポリエチレングリコール(PEG)からなるブロックコポリマーを水存在下で加温するだけで、PEGが垂直に配列した直径~8nmのナノシリンダー膜を作製できる。このシリンダー形成は水の有無により可逆的に形成させることができる。
未公開特許(まだ出願公開されていない特許)については、上記項目のみについて公開しています。詳細内容の開示にあたっては、別途、大学と秘密保持契約を締結していただくことが必要となります。
その手続き等について、詳しくお知りになりたい方は下記「問合せ先」までお問い合わせ下さい。


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close