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シス-アルケンの製造装置及び製造方法 NEW 新技術説明会

国内特許コード P180015399
掲載日 2018年11月2日
出願番号 特願2018-021153
公開番号 特開2018-131688
出願日 平成30年2月8日(2018.2.8)
公開日 平成30年8月23日(2018.8.23)
優先権データ
  • 特願2017-027125 (2017.2.16) JP
発明者
  • 橋本 康嗣
  • 佐藤 康司
  • 跡部 真人
  • 深澤 篤
  • 簑島 樹里
出願人
  • JXTGエネルギー株式会社
  • 国立大学法人横浜国立大学
発明の名称 シス-アルケンの製造装置及び製造方法 NEW 新技術説明会
発明の概要 【課題】シス-アルケンの新規な製造技術を提供する。
【解決手段】シス-アルケンの製造装置10は、固体高分子形電解ユニット100と、固体高分子形電解ユニット100にアルキンを供給する供給部34とを備える。固体高分子形電解ユニット100は、アルキンを電解還元してシス-アルケンを製造する。
【選択図】図1
従来技術、競合技術の概要


従来、一部のシス-アルケン、言い換えればシス-オレフィンは、香料等に用いられる有用な化学物質であることが知られている。例えば、特許文献1には、アルキンを蟻酸還元することでシス-アルケンを製造する化学プロセスが開示されている。

産業上の利用分野


本発明は、シス-アルケンの製造装置及び製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
固体高分子形電解ユニットと、
前記固体高分子形電解ユニットにアルキンを供給する供給部と、を備え、
前記固体高分子形電解ユニットは、前記アルキンを電解還元してシス-アルケンを製造することを特徴とするシス-アルケンの製造装置。

【請求項2】
前記固体高分子形電解ユニットは、アノード触媒層を含むアノードと、カソード触媒層を含むカソードと、前記アノードと前記カソードとの間に設けられる固体高分子電解質膜とを有し、
前記供給部は、前記カソードに前記アルキンを供給する請求項1に記載のシス-アルケンの製造装置。

【請求項3】
前記カソード触媒層は、Pd,Ir,Ag,Auからなる群から選択される少なくとも一種の触媒金属を含む請求項2に記載のシス-アルケンの製造装置。

【請求項4】
前記カソード触媒層は、Pdを含む請求項3に記載のシス-アルケンの製造装置。

【請求項5】
前記カソードの電位を、前記アルキンの理論還元電位に対して-0.23V以上0V以下の範囲に調整する制御部をさらに備える請求項2乃至4のいずれか1項に記載のシス-アルケンの製造装置。

【請求項6】
前記固体高分子電解質膜は、パーフルオロスルホン酸を含む請求項2乃至5のいずれか1項に記載のシス-アルケンの製造装置。

【請求項7】
固体高分子形電解ユニットを用いてアルキンを電解還元し、シス-アルケンを製造することを含むことを特徴とするシス-アルケンの製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2018021153thum.jpg
出願権利状態 公開
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