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実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子およびその製造方法

国内特許コード P190015901
整理番号 AF11-06WO
掲載日 2019年3月8日
出願番号 特願2013-533507
登録番号 特許第5657805号
出願日 平成24年9月13日(2012.9.13)
登録日 平成26年12月5日(2014.12.5)
国際出願番号 JP2012005838
国際公開番号 WO2013038674
国際出願日 平成24年9月13日(2012.9.13)
国際公開日 平成25年3月21日(2013.3.21)
優先権データ
  • 特願2011-202735 (2011.9.16) JP
発明者
  • 北川 宏
  • 草田 康平
出願人
  • 国立研究開発法人科学技術振興機構
発明の名称 実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子およびその製造方法
発明の概要 開示されるルテニウム微粒子は、実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子である。また、開示される製造方法は、実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子の製造方法である。この製造方法は、ルテニウム(III)アセチルアセトナートとポリビニルピロリドンとトリエチレングリコールとを含む溶液を180℃以上の温度に保持する工程(i)を含む。
従来技術、競合技術の概要


従来から、溶液中で金属化合物を還元して金属微粒子を製造する方法が提案されている。そして、ルテニウムの微粒子を製造する方法も提案されている(非特許文献1)。



非特許文献1では、粒径が2.1~6.0nmのルテニウム微粒子が製造されている。非特許文献1では、還元剤を兼ねる溶媒として、エチレングリコールまたは1,4-ブタンジオールが用いられている。2.1~3.1nmの微粒子は、エチレングリコールまたは1,4-ブタンジオールを用いた1段階の還元工程で調製されている。一方、3.8~6.0nmの微粒子は、3.1nmのルテニウム微粒子を核とした2段階の工程で調製されている。その3.8~6.0nmの微粒子は、1,4-ブタンジオールを用いて調製されている。非特許文献1には、ルテニウム微粒子の粒径が小さいときにはhcp構造(六方最密充填構造)をとり、粒径が大きくなるとfcc構造(面心立方構造)とhcp構造との混合相となることが記載されている。

産業上の利用分野


本発明は、実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子およびその製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子群。

【請求項2】
前記ルテニウム微粒子の平均粒径が2nm以上である、請求項1に記載のルテニウム微粒子群。

【請求項3】
前記ルテニウム微粒子の平均粒径が2.6nm以上である、請求項に記載のルテニウム微粒子群。

【請求項4】
請求項1に記載のルテニウム微粒子群を用いた一酸化炭素の酸化触媒。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2013533507thum.jpg
出願権利状態 登録
参考情報 (研究プロジェクト等) CREST ナノ界面技術の基盤構築 領域
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