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(In Japanese)実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子およびその製造方法

Patent code P190015901
File No. AF11-06WO
Posted date Mar 8, 2019
Application number P2013-533507
Patent number P5657805
Date of filing Sep 13, 2012
Date of registration Dec 5, 2014
International application number JP2012005838
International publication number WO2013038674
Date of international filing Sep 13, 2012
Date of international publication Mar 21, 2013
Priority data
  • P2011-202735 (Sep 16, 2011) JP
Inventor
  • (In Japanese)北川 宏
  • (In Japanese)草田 康平
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title (In Japanese)実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子およびその製造方法
Abstract (In Japanese)開示されるルテニウム微粒子は、実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子である。また、開示される製造方法は、実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子の製造方法である。この製造方法は、ルテニウム(III)アセチルアセトナートとポリビニルピロリドンとトリエチレングリコールとを含む溶液を180℃以上の温度に保持する工程(i)を含む。
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

従来から、溶液中で金属化合物を還元して金属微粒子を製造する方法が提案されている。そして、ルテニウムの微粒子を製造する方法も提案されている(非特許文献1)。

非特許文献1では、粒径が2.1~6.0nmのルテニウム微粒子が製造されている。非特許文献1では、還元剤を兼ねる溶媒として、エチレングリコールまたは1,4-ブタンジオールが用いられている。2.1~3.1nmの微粒子は、エチレングリコールまたは1,4-ブタンジオールを用いた1段階の還元工程で調製されている。一方、3.8~6.0nmの微粒子は、3.1nmのルテニウム微粒子を核とした2段階の工程で調製されている。その3.8~6.0nmの微粒子は、1,4-ブタンジオールを用いて調製されている。非特許文献1には、ルテニウム微粒子の粒径が小さいときにはhcp構造(六方最密充填構造)をとり、粒径が大きくなるとfcc構造(面心立方構造)とhcp構造との混合相となることが記載されている。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子およびその製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
実質的に面心立方構造を有するルテニウム微粒子群。

【請求項2】
 
前記ルテニウム微粒子の平均粒径が2nm以上である、請求項1に記載のルテニウム微粒子群。

【請求項3】
 
前記ルテニウム微粒子の平均粒径が2.6nm以上である、請求項2に記載のルテニウム微粒子群。

【請求項4】
 
請求項1に記載のルテニウム微粒子群を用いた一酸化炭素の酸化触媒。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2013533507thum.jpg
State of application right Registered
Reference ( R and D project ) CREST Development of the Foundation for Nano-Interface Technology AREA
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