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(In Japanese)金属錯体及び金属錯体の製造方法 (Patent unpublished to the public) meetings

Patent code P190016136
File No. P17-076
Posted date Jun 18, 2019
Application number P2018-128370
Date of filing Jul 5, 2018
Inventor
  • (In Japanese)古山渓行
  • (In Japanese)島崎史佳
  • (In Japanese)前多肇
  • (In Japanese)千木昌人
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人金沢大学
Title (In Japanese)金属錯体及び金属錯体の製造方法 (Patent unpublished to the public) meetings
Abstract (In Japanese)700~1000 nm程度の近赤外光を強く吸収しながら、電気特性などを制御できるテーラーメード性を持つ有機ルテニウム錯体は現状ほとんど例がない。本技術は、入手容易な原料を用いて、それらを混合・加熱するのみの簡便な手法により、近赤外光を強く吸収する新規ルテニウム錯体群を提供するものである。
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