半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス
(未公開特許出願)
国内特許コード | P190016385 |
---|---|
整理番号 | 2019-001 |
掲載日 | 2019年10月7日 |
出願番号 | 特願2019-125039 |
出願日 | 令和元年7月4日(2019.7.4) |
発明者 |
|
出願人 |
|
発明の名称 |
半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス
(未公開特許出願)
|
発明の概要 | 簡易な構成により放熱性能を向上させた半導体デバイス及びその製造方法を提供する。本発明の一側面に係る半導体デバイスの製造方法は、互いに対向する第1面及び第2面を有するガリウム系半導体を用意するステップと、互いに対向する第1面及び第2面を有するダイヤモンド基盤を用意するステップと、前記ガリウム系半導体の第2面及び前記ダイヤモンド基盤の第1面を表面活性化接合法により接合するステップとを備える。 |
英語項目の表示
発明者 |
|
---|---|
出願人 |
|
『 半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス』に関するお問合せ
- 公立大学法人大阪 URAセンター
- URL: https://www.osaka-cu.ac.jp/ja/research/collaboration_office/
-
E-mail:
- Address: 〒558-8585 大阪市住吉区杉本3-3-138
- TEL: 06-6605-3469
- FAX: 06-6605-2058