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(In Japanese)がん治療装置 NEW_EN

Patent code P190016453
File No. (S2017-0125-N0)
Posted date Oct 30, 2019
Application number P2018-552621
Date of filing Nov 22, 2017
International application number JP2017042029
International publication number WO2018097185
Date of international filing Nov 22, 2017
Date of international publication May 31, 2018
Priority data
  • P2016-228164 (Nov 24, 2016) JP
Inventor
  • (In Japanese)石川 義弘
  • (In Japanese)梅村 将就
  • (In Japanese)秋本 大輔
Applicant
  • (In Japanese)公立大学法人横浜市立大学
Title (In Japanese)がん治療装置 NEW_EN
Abstract (In Japanese)患部組織に印加する100kHzから300kHzの磁場を発生する磁場発生器を備えるがん治療装置である。
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

従来、高悪性度のがんの治療装置として、患部組織に電場を適用する装置が提案される。特許文献1では、AC電源と、前記AC電源に動作可能に接続され、各々が患者の身体に配置されるように構成された表面を有する複数の絶縁された電極とを含む、患者の目標領域内に配置された急速に分裂する細胞を、選択的に破壊する、またはその成長を抑制するための装置であって、前記電極が患者の身体に配置された場合に、第1の周波数を有する第1のAC電界と第2の周波数を有する第2のAC電界が、前記患者の前記目標領域に時間的に順次、印加されるように、前記AC電源と前記電極が構成され、前記第1の周波数と前記第2の周波数が異なっており、前記第1と第2の電界が急速に分裂する細胞の脆弱性に対応する周波数特性を有し、細胞分裂の後期段階の末期または終期段階に際して、その長軸が前記電界の力線と整列された、前記急速に分裂する細胞の重要な部分を損傷させるために、前記第1と第2の電界が十分に強いものであり、かつ前記第1と第2の電界が前記目標領域内に配置された非分裂細胞を変化させないことを特徴とする装置が開示される。

また特許文献2では、標的領域(1620)の内部に位置する寄生生物の増殖を選択的に破壊もしくは阻害するインビトロの方法であって、前記標的領域(1620)にAC電界を容量結合する工程と、前記標的領域(1620)の内部で前記寄生生物の治療的に有意な部分が死滅するまで前記結合工程を繰り返す工程とを備え、前記電界の周波数が0.1MHzと20MHzとの間であり、前記標的領域(1620)の少なくとも一部における前記電界の強度が0.5V/cmと10V/cmとの間であり、前記電界が前記標的領域(1620)の内部に位置する前記寄生生物の有意な部分を損傷もしくは崩壊させ、前記標的領域(1620)の内部に位置する非分裂細胞を実質的に無傷のまま残すことを特徴とする方法が提案される。

しかし患部に電場を適用するがん治療装置では、装置の電極部を装着するために患部を剃毛する必要がある。加えて電極部の装着時間が長く、18時間以上の装着を要する場合もある。また装着時間中に患者が移動する場合には、重い電源の運搬を強いられる。上記のがん治療装置の使用の現状に鑑み、治療効果だけでなく、患者の負担が少ない緩解療法に適したがん治療装置が求められる。

他のがん治療装置として、特許文献3により、生体活性な無機質層で包まれている強磁性を示すフェライト粒子であって、体内に埋入されたとき周囲の組織と極めて優れた親和性を示し、しかも交流磁場下で効率の高い磁気誘導発熱を示すことを特徴とする温熱療法用セラミックス発熱体が提案される。また特許文献4では、患部を挟持する位置に離間距離調整自在に対向設置された交流磁場発生用の磁極対と、該磁極対に交流磁場を印加するための磁場印加部と、前記交流磁場を制御するための磁場制御モジュールとから構成されることを特徴とするがん治療装置が開示される。

特許文献3や特許文献4に挙げる発明は、長期間体内に埋入し、その温熱効果によってがん治療を目指すものである。しかし具体的ながん細胞の増殖抑制効果については開示されていない。そのため磁場適用によるがん治療が一層研究され、その成果により悪性度の高いがん細胞種に対しても画期的な効果を発揮するがん治療装置が確立されることが望まれる。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、交流磁場を患部組織に印加してがん細胞の増殖を抑制するがん治療装置に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
患部組織に印加する100kHzから300kHzの磁場を発生する磁場発生器を備えるがん治療装置。

【請求項2】
 
前記磁場発生器に供給する電流を制御する制御モジュールと、
前記制御モジュールの出力に基づき前記磁場発生器に交流電流を供給する電源とをさらに備え、
前記制御モジュールは、
前記患部組織のがん種の入力を受け付けるがん種入力部と、
がん種に対応する周波数が格納される記憶部と、
前記記憶部を参照して前記がん種入力部に入力されるがん種に対応する周波数を前記電源に設定するコントローラとを備える、請求項1に記載されるがん治療装置。

【請求項3】
 
前記記憶部には、がん種に対応する印加時間がさらに格納され、
前記コントローラは、前記記憶部を参照して前記がん種入力部に入力されるがん種に対応する印加時間の情報を前記電源に出力する、請求項2に記載されるがん治療装置。

【請求項4】
 
前記電源から前記磁場発生器への交流電流の供給を開始する電源スイッチをさらに備える、請求項2または請求項3に記載されるがん治療装置。

【請求項5】
 
前記制御モジュールは、前記患部組織の温度をがん細胞の殺傷温度未満に制御する、請求項2から請求項4までのいずれか一項に記載されるがん治療装置。

【請求項6】
 
前記がん種入力部は、神経膠芽腫と悪性黒色腫と舌がんと乳がんと悪性中皮腫と膵がんとヒト肺胞基底上皮腺がんとからなる群から一つのがん種を選択して入力できる請求項2から請求項5までのいずれか一項に記載されるがん治療装置。

【請求項7】
 
前記患部組織はヒトの患部組織である、請求項1から請求項6までのいずれか一項に記載されるがん治療装置。

【請求項8】
 
前記記憶部に格納される前記印加時間が、30分以上180分以下の範囲内の値で構成される、請求項3に記載されるがん治療装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2018552621thum.jpg
State of application right Published
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