Top > Search of Japanese Patents > SILSESQUIOXANE DERIVATIVE CONTAINING ALKOXYSILYL GROUP

SILSESQUIOXANE DERIVATIVE CONTAINING ALKOXYSILYL GROUP

Patent code P190016494
File No. S2018-0584-N0
Posted date Nov 25, 2019
Application number P2018-084946
Publication number P2019-189564A
Date of filing Apr 26, 2018
Date of publication of application Oct 31, 2019
Inventor
  • (In Japanese)中 建介
  • (In Japanese)井本 裕顕
  • (In Japanese)リ レイナ
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人京都工芸繊維大学
Title SILSESQUIOXANE DERIVATIVE CONTAINING ALKOXYSILYL GROUP
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a silsesquioxane derivative containing an alkoxysilyl group that prevents coupling of molecules.
SOLUTION: The present invention provides a silsesquioxane represented by formula (I) (each R1: a hydrocarbon group or a fluorinated alkyl, each Y: -(CH2)m-Si(OR2)3, -(CH2)m-S-(CH2)n-Si(OR2)3, -(CH2)m-S-(CH2)n-Si(OR2)2 CH3, or -Si-Z(CH3)2, m and n: an integer of 1 to 4, each R2: methyl or ethyl).
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

有機と無機のハイブリッド材料のナノビルディングブロックとして、かご型シルセスキオキサン(POSS)が着目されている。他方、フルオロアルキル化合物は化学的に安定で、耐熱性、耐薬品性、耐候性、耐酸性に優れ、また分子間凝集力が小さく、表面自由エネルギーが低いために、優れた撥水性、撥油性、非粘着性、防汚性を得ることができる。そして、含フッ素シランカップリング剤は分子中の含フッ素有機基が特性付与を担い、同一分子中の別の官能基が固体表面のヒドロキシル基と反応するように設計され、樹脂やガラス表面改質に利用されている。含フッ素かご型シルセスキオキサン化合物は、剛直でかさ高いサイコロ状の無機骨格に高密度に多数の含フッ素基が導入された構造であるため、短いパーフルオロアルキル鎖であっても分子運動性が抑えられ上記の性質がより強調される材料が得られる。このため、含フッ素かご型シルセスキオキサン化合物にアルコキシシリル基を導入したシランカップリング剤が開発され、強靭な塗膜への応用展開が行われている(特許文献1)。

しかしながら、特許文献1の含フッ素シランカップリング剤中の上記の官能基は水溶液中でシラノール基であるため、カップリング剤同士の反応などにより、固体表面上に効果的に均一な含フッ素有機基のコーティングを施すことができない。

また、含フッ素かご型シルセスキオキサン化合物へのアルコキシシリル基の導入は1官能に限られる(特許文献2)。この場合、含フッ素かご型シルセスキオキサン化合物の結晶性の高さから,高密度に含フッ素かご型シルセスキオキサン化合物を含むアモルファスな光学的透明材料を得ることは困難である。また、これらのアルコキシシリル基を導入したかご型シルセスキオキサン化合物は常温で固体であるため、ゾルゲル反応を進行させるためには共溶媒として有機溶剤が必須である。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、アルコキシシリル基を含むシルセスキオキサン誘導体に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
式(I)で表わされるシルセスキオキサン。
【化1】
 
(省略)
(式中、各R1は、各々独立に、炭化水素基またはフッ化アルキルを示し、
各Yは、各々独立に、-(CH2m -Si(OR23
-(CH2m -S-(CH2n-Si(OR23
-(CH2m -S-(CH2n-Si(OR22 CH3、または
-Si-Z(CH32であり、
mおよびnは、各々独立に、1から4までの整数であり、
各R2は、各々独立に、メチルもしくはエチルであり、
Zは、-(CH2p -Si(OR)3
-(CH2p -S-(CH2q-Si(OR33
-(CH2p-S-(CH2q-Si(OR32 CH3
-(CH2s -O-CO(NH)-(CH2t -Si(OR33、または
-(CH2s -O-CO(NH)-(CH2t -Si(OR32 CH3であり、
pおよびqは、各々独立に、1から4までの整数であり、
sおよびtは、各々独立に、1から6までの整数であり、
各R3は、各々独立に、メチルまたはエチルである。)

【請求項2】
 
各R1は、各々独立に、
【化2】
 
(省略)
であり、
各Yは、各々独立に、-(CH2m -Si(OR23
-(CH2m -S-(CH2n-Si(OR23 、または
-(CH2m -S-(CH2n-Si(OR22 CH3であり、
mおよびnは、各々独立に、1から4までの整数であり、
各R2は、各々独立に、メチルもしくはエチルである請求項1に記載のシルセスキオキサン。

【請求項3】
 
式(II)で表わされる請求項1に記載のシルセスキオキサン。
【化3】
 
(省略)
(式中、各R1は、各々独立に、炭化水素基またはフッ化アルキルを示し、
各Zは、各々独立に、-(CH2p -Si(OR33
-(CH2p -S-(CH2q-Si(OR33
-(CH2p -S-(CH2q-Si(OR32 CH3
-(CH2s -O-CO(NH)-(CH2t -Si(OR33、または
-(CH2s -O-CO(NH)-(CH2t -Si(OR32 CH3であり、
式中、pおよびqは、各々独立に、1から4までの整数であり、
sおよびtは、各々独立に、1から6までの整数であり、
各R3は、各々独立に、メチルもしくはエチルである。)

【請求項4】
 
請求項1~3のいずれかに記載のシルセスキオキサンの重合体を含む光学的透明材料。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Published
Please contact us by E-mail or facsimile if you have any interests on this patent


PAGE TOP

close
close
close
close
close
close
close