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ポリイミド微細構造体の製造方法 NEW

国内特許コード P200016682
整理番号 S2018-0805-N0
掲載日 2020年3月24日
出願番号 特願2018-155259
公開番号 特開2020-029501
出願日 平成30年8月22日(2018.8.22)
公開日 令和2年2月27日(2020.2.27)
発明者
  • 小野 篤史
出願人
  • 国立大学法人静岡大学
発明の名称 ポリイミド微細構造体の製造方法 NEW
発明の概要 【課題】板状部材上に形成されるポリイミドを十分に微細化すること。
【解決手段】ポリイミド微細構造体の製造方法は、ポリイミド微細構造体を作製する製造方法であって、基板S上にポリアミック酸樹脂を含む加工用膜33を形成する形成ステップと、基板S上の加工用膜33に所定の照射パターン及び所定の強度でレーザ光を照射することによって、光反応により加工用膜33をイミド化する照射ステップと、基板S上の加工用膜33のうちの残余のポリアミック酸樹脂を除去する除去ステップと、を備える。
【選択図】図2
従来技術、競合技術の概要

以前から、板状の部材上にポリイミド膜の微細構造を形成する技術が種々用いられている。例えば、ポリアミック酸と近赤外吸収色素とを溶媒に溶解して基板に塗布した後に、塗布した膜に半導体レーザ光を照射して選択的にイミド化する方法が知られている(下記特許文献1参照。)。また、ポリアミック酸に感光材を配合した感光性ポリアミック酸膜内に低出力レーザを照射して屈折率変化を生じさせた後に、ポリアミック酸を加熱してイミド化することにより、三次元ポリイミド光導波路を形成する方法も知られている(下記特許文献2参照。)。

産業上の利用分野

本発明は、板状部材においてポリイミド微細構造体を作製するポリイミド微細構造体の製造方法に関する。

特許請求の範囲 【請求項1】
ポリイミド微細構造体を作製する製造方法であって、
板状部材上にポリイミド前駆体を含む加工用の膜を形成する形成ステップと、
前記板状部材上の前記加工用の膜に所定の照射パターン及び所定の強度でレーザ光を照射することによって、光反応により前記加工用の膜をイミド化する照射ステップと、
前記板状部材上の前記加工用の膜のうちの残余のポリイミド前駆体を除去する除去ステップと、
を備えるポリイミド微細構造体の製造方法。

【請求項2】
前記形成ステップでは、板状部材上にポリイミドを含む下地膜を形成し、前記下地膜上に前記加工用の膜を形成する、
請求項1記載のポリイミド微細構造体の製造方法。

【請求項3】
前記形成ステップでは、さらに、前記下地膜の表面をカルボキシル化する処理を含む、
請求項2記載のポリイミド微細構造体の製造方法。

【請求項4】
前記除去ステップの後で、前記板状部材を除去するステップをさらに備える、
請求項2又は3に記載のポリイミド微細構造体の製造方法。

【請求項5】
前記除去ステップの後で、ポリイミド前駆体が除去された前記加工用の膜及び前記板状部材の表面に、金属膜を形成するステップをさらに備える、
請求項1~4のいずれか1項に記載のポリイミド微細構造体の製造方法。

【請求項6】
前記照射ステップでは、前記所定の強度で所定の時間でレーザ光を1点照射することによって、前記加工用の膜を100~800nmの径の範囲でイミド化する、
請求項1~5のいずれか1項に記載のポリイミド微細構造体の製造方法。

【請求項7】
前記照射ステップでは、前記所定の強度及び所定の走査速度でレーザ光を走査させながら照射することによって、前記加工用の膜を100~800nmの幅でイミド化する、
請求項1~5のいずれか1項に記載のポリイミド微細構造体の製造方法。

【請求項8】
前記照射ステップでは、パルス状の前記レーザ光を前記板状部材に照射する、
請求項1~7のいずれか1項に記載のポリイミド微細構造体の製造方法。
国際特許分類(IPC)
Fターム
画像

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JP2018155259thum.jpg
出願権利状態 公開
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