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PROCESSING METHOD AND PROCESSING DEVICE OF GLASS

Patent code P200016737
File No. 5498
Posted date Apr 6, 2020
Application number P2016-146534
Publication number P2018-016507A
Date of filing Jul 26, 2016
Date of publication of application Feb 1, 2018
Inventor
  • (In Japanese)和田 正紀
  • (In Japanese)下間 靖彦
  • (In Japanese)三浦 清貴
  • (In Japanese)坂倉 政明
  • (In Japanese)清水 政二
Applicant
  • (In Japanese)日本電気硝子株式会社
  • (In Japanese)国立大学法人京都大学
  • (In Japanese)三星ダイヤモンド工業株式会社
Title PROCESSING METHOD AND PROCESSING DEVICE OF GLASS
Abstract PROBLEM TO BE SOLVED: To heat emphatically a surface layer part of glass facing to a molding surface provided on a molding tool, while maintaining the molding tool at a low temperature.
SOLUTION: In a processing method of a glass sheet for molding the glass sheet G1 into a shape obtained by copying a molding surface 1a provided on a molding tool 1 by heating the glass sheet G1 arranged on the molding tool 1, a laser beam LB transmitted by the molding tool 1 and absorbed by the glass sheet G1 is applied to the glass sheet G1 through the molding tool 1, to thereby heat the glass sheet G1.
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

ガラスを加工する方法としては、成形型にガラスを配置した状態でガラスを加熱して、ガラスを成形型に設けた成形面に倣った形状に成形する方法が挙げられる(特許文献1を参照)。この場合、ガラスが配置された成形型を、ヒータなどが設けられた加熱炉内で加熱するのが通例である。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、成形型を用いたガラスの加工技術の改良に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
成形型に配置したガラスを加熱して、前記ガラスを前記成形型に設けた成形面に倣った形状に成形するガラスの加工方法であって、
前記成形型を透過し且つ前記ガラスで吸収されるレーザを、前記成形型を通して前記ガラスに照射することを特徴とするガラスの加工方法。

【請求項2】
 
前記成形面が微細パターンを構成する溝部を有し、前記レーザの照射によって、前記ガラスに前記微細パターンを転写することを特徴とする請求項1に記載のガラスの加工方法。

【請求項3】
 
前記成形面が凹状又は凸状をなし、前記レーザの照射によって、前記ガラスに前記成形面に倣った湾曲面を形成することを特徴とする請求項1に記載のガラスの加工方法。

【請求項4】
 
前記成形面に対して前記ガラスを押圧しながら、前記レーザを照射することを特徴とする請求項1~3のいずれか1項に記載のガラスの加工方法。

【請求項5】
 
前記ガラスがガラス板であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のガラスの加工方法。

【請求項6】
 
前記ガラスがガラス粉末の集合体であることを特徴とする請求項1~4のいずれか1項に記載のガラスの加工方法。

【請求項7】
 
前記レーザがCO2レーザであることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載のガラスの加工方法。

【請求項8】
 
前記成形型がセレン化亜鉛、硫化亜鉛、ガリウム砒素及びCVDダイヤモンドからなる群から選ばれた1つの材料で形成されていることを特徴とする請求項7に記載のガラスの加工方法。

【請求項9】
 
前記レーザが中赤外線レーザまたは近赤外線レーザであることを特徴とする請求項1~6のいずれか1項に記載のガラスの加工方法。

【請求項10】
 
前記成形型がシリコン、ゲルマニウム、サファイア、セレン化亜鉛、硫化亜鉛、ガリウム砒素、CVDダイヤモンド及びIRグレード石英ガラスからなる群から選ばれた1つの材料、若しくは、中赤外及び/または近赤外を透過する透明セラミックスで形成されていることを特徴とする請求項9に記載のガラスの加工方法。

【請求項11】
 
ガラスが配置される成形型と、前記ガラスを加熱する加熱装置とを備え、前記ガラスを前記成形型に設けた成形面に倣った形状に成形するガラスの加工装置であって、
前記加熱装置が、前記成形型を透過し且つ前記ガラスで吸収されるレーザを、前記成形型を通して前記ガラスに照射するレーザ照射装置であることを特徴とするガラスの加工装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2016146534thum.jpg
State of application right Published
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