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微細加工された酸化物の膜の形成方法 (未公開特許出願) 新技術説明会

国内特許コード P200016980
整理番号 P18-054
掲載日 2020年6月25日
出願番号 特願2019-141853
出願日 令和元年8月1日(2019.8.1)
発明者
  • 川江 健
  • 井藤 聡詞
出願人
  • 国立大学法人金沢大学
発明の名称 微細加工された酸化物の膜の形成方法 (未公開特許出願) 新技術説明会
発明の概要 水に可溶かつ耐熱性に優れるアモルファス酸化カルシウムを犠牲層とし、目的とする酸化物薄膜の選択成長と微細加工をミクロンオーダかつ高速で行う。
当該技術を用いる事で、酸化物薄膜で構成される各種デバイスに対するプロセスコストの大幅低減が可能となる。
(有)金沢大学ティ・エル・オーは、金沢大学の研究者の出願特許を産業界へ技術移転することを主目的として、金沢大学の教官の出資により設立された技術移転機関です。
ご興味のある方は、下記「問合せ先」へ整理番号と共にご連絡願います。
なお、既に活用のお申し込み・お打合わせ等の段階に入っている場合もございますので、予めご承知おきください。


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