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(In Japanese)微細加工された酸化物の膜の形成方法 (Patent unpublished to the public) meetings

Patent code P200016980
File No. P18-054
Posted date Jun 25, 2020
Application number P2019-141853
Date of filing Aug 1, 2019
Inventor
  • KAWAE TAKESHI
  • Other
Applicant
  • NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION KANAZAWA UNIVERSITY
Title (In Japanese)微細加工された酸化物の膜の形成方法 (Patent unpublished to the public) meetings
Abstract (In Japanese)水に可溶かつ耐熱性に優れるアモルファス酸化カルシウムを犠牲層とし、目的とする酸化物薄膜の選択成長と微細加工をミクロンオーダかつ高速で行う。
当該技術を用いる事で、酸化物薄膜で構成される各種デバイスに対するプロセスコストの大幅低減が可能となる。
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