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支持体表面への高分子鎖形成による水処理膜の製造方法 (未公開特許出願)

国内特許コード P200017018
整理番号 N19091
掲載日 2020年7月9日
出願番号 特願2020-022330
出願日 令和2年2月13日(2020.2.13)
発明の名称 支持体表面への高分子鎖形成による水処理膜の製造方法 (未公開特許出願)
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