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(In Japanese)高分子金属錯体及びその製造方法

Patent code P200017060
File No. S2019-0057-N0
Posted date Jul 28, 2020
Application number P2018-230395
Publication number P2020-090644A
Date of filing Dec 7, 2018
Date of publication of application Jun 11, 2020
Inventor
  • (In Japanese)大澤 重仁
  • (In Japanese)大塚 英典
  • (In Japanese)黒川 颯介
Applicant
  • (In Japanese)学校法人東京理科大学
Title (In Japanese)高分子金属錯体及びその製造方法
Abstract (In Japanese)
【課題】
 ポリマーに錯形成する従来法に比べ、高分子量であり、所望とする錯構造を有する高分子金属錯体が迅速かつ簡便に製造される高分子金属錯体の製造方法を提供する。
【解決手段】
 炭素-炭素不飽和二重結合を有する化合物が金属に配位した金属錯体モノマーを重合反応させる工程を有する、高分子金属錯体の製造方法である。
【選択図】
 なし
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

金属錯体は、化学反応に用いられる触媒、色材、制がん剤等の薬剤などの幅広い分野において用いられている。そして、近年では、金属錯体の機能の向上又は他の分野への応用を目的として、金属錯体を高分子化する検討が広く行われるに至っている。

一方、高分子金属錯体は、錯体を形成するリガンド部位を含むモノマーをポリマー化し、得られたポリマーを用い、所望とする金属で錯形成することにより製造されることが主流となっている。例えば、非特許文献1では、ポリマーに亜鉛の配位部分を形成する技術を提案している。

Field of industrial application (In Japanese)

本開示は、高分子金属錯体及びその製造方法に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
炭素-炭素不飽和二重結合を有する化合物が金属に配位した金属錯体モノマーを重合反応させる工程を有する、高分子金属錯体の製造方法。

【請求項2】
 
前記金属錯体モノマーは、前記金属が異なる2種以上の前記金属錯体モノマーである請求項1に記載の高分子金属錯体の製造方法。

【請求項3】
 
前記金属が、Pt、Mn、Fe、Ni、Cu、Zn及びGdからなる群より選択される少なくとも1つである請求項1又は請求項2に記載の高分子金属錯体の製造方法。

【請求項4】
 
前記工程は、ポリエチレンオキシド鎖を有する連鎖移動剤の存在下で重合反応させる請求項1~請求項3のいずれか1項に記載の高分子金属錯体の製造方法。

【請求項5】
 
前記金属錯体モノマーは、アクリルモノマーである請求項1~請求項4のいずれか1項に記載の高分子金属錯体の製造方法。

【請求項6】
 
前記金属錯体モノマーは、下記式1で表される化合物が金属に配位した金属錯体モノマーである請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の高分子金属錯体の製造方法。
【化1】
 
(省略)
式1中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、下記式2で表される基又は下記式3で表される基を表し、n1、n2及びn3は、それぞれ独立に、1~4の整数を表す。
【化2】
 
(省略)
式2及び式3中、R3は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。

【請求項7】
 
下記式1で表される化合物が金属に配位した金属錯体モノマーに由来の構成単位を有し、重合度が10~100である、高分子金属錯体。
【化3】
 
(省略)
式1中、Ar1及びAr2は、それぞれ独立に、下記式2で表される基又は下記式3で表される基を表し、n1、n2及びn3は、それぞれ独立に、1~4の整数を表す。
【化4】
 
(省略)
式2及び式3中、R3は、それぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表す。

【請求項8】
 
前記金属錯体モノマーは、前記金属が異なる2種以上の前記金属錯体モノマーである請求項7に記載の高分子金属錯体。

【請求項9】
 
ポリエチレンオキシド鎖を有する請求項7又は請求項8に記載の高分子金属錯体。
IPC(International Patent Classification)
F-term
State of application right Published
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