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(In Japanese)歩行・足部評価方法、歩行・足部評価プログラムおよび歩行・足部評価装置 meetings

Patent code P200017134
File No. (S2017-0514-N0)
Posted date Aug 7, 2020
Application number P2019-504620
Date of filing Mar 6, 2018
International application number JP2018008663
International publication number WO2018164157
Date of international filing Mar 6, 2018
Date of international publication Sep 13, 2018
Priority data
  • P2017-044385 (Mar 8, 2017) JP
Inventor
  • (In Japanese)太田 裕治
  • (In Japanese)安在 絵美
  • (In Japanese)中嶋 香奈子
  • (In Japanese)留奥 美希
  • (In Japanese)才脇 直樹
  • (In Japanese)笹田 安那
Applicant
  • (In Japanese)国立大学法人お茶の水女子大学
  • (In Japanese)国立研究開発法人産業技術総合研究所
  • (In Japanese)国立大学法人奈良女子大学
Title (In Japanese)歩行・足部評価方法、歩行・足部評価プログラムおよび歩行・足部評価装置 meetings
Abstract (In Japanese)複数のユーザが使用する靴のインソールに設けられた1以上のセンサから歩行時および静止立位時における所定時間の少なくとも足底圧のデータを取得し、取得されたデータを解析して、ユーザ毎の、歩行時における少なくとも足底圧パラメータ、足圧中心パラメータおよび時間パラメータと、静止立位時における少なくとも足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータとを取得して蓄積する、処理をコンピュータが実行する。
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

関連分野において、ヒトの足底圧を検知するための装置の開発に関する発明がなされている(特許文献1、2)。また、静止立位状態において足部形状を計測し、足部アーチ高のデータから靴選択支援を行う技術(特許文献3)や、フィッティングポイントと盛り上げ高さを変えた標本中敷により無理に歩行バランスを崩した歩行運動データと、利用者から計測した加速度とを比較して、フィッティングポイントと盛り上げ高さを決定する技術(特許文献4)も提案されている。

これまでに本発明者らは、足底圧を評価するための計測装置を開発し、その有用性や得られたデータの分析結果について報告した(非特許文献1~3)。すなわち、足底圧を評価するための計測装置の開発およびその有効性の検証(非特許文献1)、開発デバイスを用いた足部アーチ構造と足底圧の関連に関する調査(非特許文献2)、足底部圧力値特徴と高齢者の転倒歴との関連の調査(非特許文献3)を進め、足部の状態を日常生活の中で評価可能な仕組みの提案と、得られるデータの特徴量について評価を行ってきた。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、歩行・足部評価方法、歩行・足部評価プログラムおよび歩行・足部評価装置に関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
複数のユーザが使用する靴のインソールに設けられた1以上のセンサから歩行時および静止立位時における所定時間の少なくとも足底圧のデータを取得し、
取得されたデータを解析して、ユーザ毎の、歩行時における少なくとも足底圧パラメータ、足圧中心パラメータおよび時間パラメータと、静止立位時における少なくとも足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータとを取得して蓄積する、
処理をコンピュータが実行することを特徴とする歩行・足部評価方法。

【請求項2】
 
前記足底圧のデータは、靴に設けられた送信部から、直接に、または携帯端末を経由して、取得する、
ことを特徴とする請求項1に記載の歩行・足部評価方法。

【請求項3】
 
歩行時における所定時間の足底圧のデータから、各センサの最大圧力値の複数歩の平均値を取得して歩行時における前記足底圧パラメータとし、足圧中心軌跡の屈曲角を取得して歩行時における前記足圧中心パラメータとし、立脚時間、両脚支持割合および単脚支持割合を取得して前記時間パラメータとし、
静止立位時における所定時間の足底圧のデータから、各センサの荷重比率を取得して静止立位時における前記足底圧パラメータとし、足圧中心総軌跡長および足圧中心矩形面積を取得して静止立位時における前記足圧中心パラメータとする、
ことを特徴とする請求項1に記載の歩行・足部評価方法。

【請求項4】
 
前記歩行時における所定時間の足底圧のデータから取得した足底圧パラメータ、足圧中心パラメータおよび時間パラメータから、胼胝・魚の目の評価を行って胼胝・魚の目評価結果を取得し、回内足・回外足の評価を行って回内足・回外足評価結果を取得し、複数歩バランスの評価を行って複数歩バランス評価結果を取得し、立脚時間の評価を行って立脚時間評価結果を取得し、両脚支持割合の評価を行って両脚支持割合評価結果を取得し、若しくは、母趾接地の評価を行って母趾接地の評価結果を取得し、
または、前記静止立位時における所定時間の足底圧のデータから取得した足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータから、左右差の評価を行って左右差評価結果を取得し、若しくは、足部アーチの評価を行って足部アーチ評価結果を取得する、
ことを特徴とする請求項1に記載の歩行・足部評価方法。

【請求項5】
 
前記胼胝・魚の目評価結果と前記回内足・回外足評価結果と前記足部アーチ評価結果と母趾接地の評価結果のうち、少なくとも1つを用いて美足度を取得し、
前記複数歩バランス評価結果と前記左右差評価結果とからカラダバランス度を取得し、
前記立脚時間評価結果と前記両脚支持割合評価結果とから歩き方リズムを取得し、
ユーザの行動を示すライフログから活動度を取得する、
ことを特徴とする請求項4に記載の歩行・足部評価方法。

【請求項6】
 
前記美足度、前記カラダバランス度、前記歩き方リズムおよび前記活動度から、各々を独立した軸とする評価チャートを生成する、
ことを特徴とする請求項5に記載の歩行・足部評価方法。

【請求項7】
 
前記胼胝・魚の目評価結果、前記回内足・回外足評価結果、前記母趾接地の評価結果、前記複数歩バランス評価結果、前記立脚時間評価結果、前記両脚支持割合評価結果、前記左右差評価結果および前記足部アーチ評価結果のうち、少なくとも1つの評価結果が類似し、かつ足部に異常の発生していない他のユーザを特定し、
当該他のユーザが使用している靴を選択候補として提示する、
ことを特徴とする請求項4に記載の歩行・足部評価方法。

【請求項8】
 
蓄積された前記データおよび/または歩行時における少なくとも足底圧パラメータ、足圧中心パラメータ並びに時間パラメータと、静止立位時における少なくとも足底圧パラメータ並びに足圧中心パラメータのうち、少なくとも1つのパラメータに基づき、時間的な状態変化を加味して総合分析を行い、足部異常の早期発見または予測警告を行う、
ことを特徴とする請求項1に記載の歩行・足部評価方法。

【請求項9】
 
複数のユーザが使用する靴のインソールに設けられた1以上のセンサから歩行時および静止立位時における所定時間の少なくとも足底圧のデータを取得し、
取得されたデータを解析して、ユーザ毎の、歩行時における少なくとも足底圧パラメータ、足圧中心パラメータおよび時間パラメータと、静止立位時における少なくとも足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータとを取得して蓄積する、
処理をコンピュータに実行させることを特徴とする歩行・足部評価プログラム。

【請求項10】
 
複数のユーザが使用する靴のインソールに設けられた1以上のセンサから歩行時および静止立位時における所定時間の少なくとも足底圧のデータを取得するデータ取得部と、
取得されたデータを解析して、ユーザ毎の、歩行時における少なくとも足底圧パラメータ、足圧中心パラメータおよび時間パラメータと、静止立位時における少なくとも足底圧パラメータおよび足圧中心パラメータとを取得して蓄積する解析部と、
を備えたことを特徴とする歩行・足部評価装置。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2019504620thum.jpg
State of application right Published
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