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(In Japanese)多孔質体の改質方法及び改質装置 (Patent unpublished to the public) meetings

Patent code P200017215
File No. 2019-004
Posted date Sep 29, 2020
Application number P2019-155512
Date of filing Aug 28, 2019
Inventor
  • SHIRAFUJI TATSURU
  • Other
Applicant
  • UNIVERSITY PUBLIC CORPORATION OSAKA
Title (In Japanese)多孔質体の改質方法及び改質装置 (Patent unpublished to the public) meetings
Abstract (In Japanese)多孔質体の改質を効率的に実現可能な方法および装置を提供する。ある態様の改質方法は、誘電体である連続多孔体の表面から裏面にわたりキャリアガスを浸透させる浸透工程と、連続多孔体の表面にプラズマを照射する照射工程と、を備える。ある態様の改質装置1は、誘電体である連続多孔体を収容可能であり、キャリアガスが満たされる処理室と、処理室にて連続多孔体を保持する保持面と、処理室に向けて延び、キャリアガスが満たされる伝搬路と、伝搬路に沿って設けられ、プラズマを発生させる電極と、を備える。


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