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(In Japanese)親水性ポリアミド又はポリイミド meetings

Patent code P200017324
File No. J1006-06WO,(S2017-0918-N0)
Posted date Dec 3, 2020
Application number P2019-534470
Date of filing Jul 27, 2018
International application number JP2018028270
International publication number WO2019026795
Date of international filing Jul 27, 2018
Date of international publication Feb 7, 2019
Priority data
  • P2017-147291 (Jul 29, 2017) JP
Inventor
  • (In Japanese)金子 達雄
  • (In Japanese)ドゥイベディ スマント
  • (In Japanese)坂本 茂樹
  • (In Japanese)高田 健司
  • (In Japanese)舟橋 靖芳
Applicant
  • (In Japanese)国立研究開発法人科学技術振興機構
Title (In Japanese)親水性ポリアミド又はポリイミド meetings
Abstract (In Japanese)耐熱性等のポリアミド、ポリイミド特有の特性を保持した親水性ポリアミド及びポリイミドの提供。
下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有することを特徴とする高分子化合物。
(式省略)
(式(1)中、
M1及びM2は、各々独立に水素原子、一価の金属原子、アルカリ土類金属原子、及びアンモニウムイオンから選ばれるいずれか(但しM1及びM2が同時に水素原子になる場合を除く)を示し、
X1及びX2は、有機基を示し、
m及びnは、各々独立に置換基の数を示し、
Z1は、水素原子又は置換基を有していてもよいカルボニル基を示し、
Z2は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、
Z3は、水素原子又は置換基を有していてもよいカルボニル基を示し、
Z1又はZ3が置換基を有していてもよいカルボニル基である場合、各々独立にZ2と環構造を形成していてもよい。)
Outline of related art and contending technology (In Japanese)

ポリイミドやポリアミド等の高分子材料は、電気工学、電子工学または宇宙工学等の各分野で広く使用されている高性能プラスチックであり、そのニーズは極めて大きい。従前、これらの高分子材料は、ほとんど全てが石油原料から合成されているため、これらの需要拡大は、低炭素化とは相反する方向となる。

一方、天然由来の原料を用いた高分子材料であるバイオプラスチックは、バイオ燃料等とは異なり、二酸化炭素の長期固定化が期待され、その実用化は低炭素化に大いに寄与するものと考えられるが、製造コストが嵩むことが大きな課題となっている。これとは別の観点によれば、コストの嵩む生体分子を用いる場合であっても、スーパーエンプラのような付加価値の高い材料であれば、コスト対効果の点でも満足し得るものとなり、社会的に広く波及できる潜在性を持つことになる。
かかる観点に基づき、本発明者らは、天然由来である4-アミノ桂皮酸の二量体を原料とするポリアミド又はポリイミドを製造し、当該ポリアミド又はポリイミドが優れた耐熱性を示し、引張強度が高く、透明性も高く、広い分野の高分子材料として有用であることを見出し、先に報告した(特許文献1及び2)。

また、ポリイミドは剛直骨格を有することから、水及び有機溶媒に対して難溶性を示し成形性が低いという欠点がある。そこで、成形性を改善したポリイミドの開発も行なわれている(特許文献3及び4)。

Field of industrial application (In Japanese)

本発明は、親水性ポリアミド又はポリイミドに関する。

Scope of claims (In Japanese)
【請求項1】
 
下記一般式(1)で表される繰り返し単位を有することを特徴とする高分子化合物。
【化1】
 
(省略)
(式(1)中、
M1及びM2は、各々独立に水素原子、一価の金属原子、アルカリ土類金属原子、及びアンモニウムイオンから選ばれるいずれか(但しM1及びM2が同時に水素原子になる場合を除く)を示し、
X1及びX2は、有機基を示し、
m及びnは、各々独立に置換基の数を示し、
Z1は、水素原子又は置換基を有していてもよいカルボニル基を示し、
Z2は、置換基を有していてもよい炭化水素基を示し、
Z3は、水素原子又は置換基を有していてもよいカルボニル基を示し、
Z1又はZ3が置換基を有していてもよいカルボニル基である場合、各々独立にZ2と環構造を形成していてもよい。)

【請求項2】
 
前記高分子化合物の繰り返し単位が、下記の一般式(2-1)又は(2-2)で表される、請求項1に記載の高分子化合物。
【化2】
 
(省略)
(式(2-1)及び式(2-2)中、M1、M2、X1、X2、m、n、Z1、Z2及びZ3は前記と同じ。)

【請求項3】
 
前記Z1及びZ3が、水素原子を示し、
前記Z2が、置換基を有していてもよい炭化水素基である、請求項1又は2に記載の高分子化合物。

【請求項4】
 
Z1及びZ3が、置換基を有していてもよいカルボニル基を示し、
Z2が、置換基を有していてもよい炭化水素基であり、Z1及びZ3が、各々独立にZ2と環構造を形成している、請求項1又は2に記載の高分子化合物。

【請求項5】
 
前記高分子化合物が、下記の一般式(3)で表される、請求項1又は2に記載の高分子化合物。
【化3】
 
(省略)
(式(3)中、M1及びM2は、各々独立に水素原子、一価の金属原子、アルカリ土類金属原子、及びアンモニウムイオンから選ばれるいずれか(但しM1及びM2が同時に水素原子になる場合を除く)を示し、
X1及びX2は、有機基を示し、
m及びnは、各々独立に置換基の数を示し、
R1は、置換基を有していてもよい炭素数4~14の炭化水素基を示す。)

【請求項6】
 
前記高分子化合物が、下記の一般式(4)で表される、請求項1又は2に記載の高分子化合物。
【化4】
 
(省略)
(式(4)中、M1及びM2は、各々独立に水素原子、一価の金属原子、アルカリ土類金属原子、及びアンモニウムイオンから選ばれるいずれか(但しM1及びM2が同時に水素原子になる場合を除く)を示し、
X1及びX2は、有機基を示し、
m及びnは、各々独立に置換基の数を示し、
R1は、置換基を有していてもよい炭素数1~8の炭化水素基を示す。)

【請求項7】
 
請求項1~6のいずれかに記載の高分子化合物と、ゲル化剤とを含有する高分子ゲル組成物。

【請求項8】
 
前記ゲル化剤が、多価金属塩又はジアミン化合物である請求項7に記載の高分子ゲル組成物。

【請求項9】
 
前記ジアミン化合物が、下記一般式(5)で表される化合物である請求項8に記載の高分子ゲル組成物。
【化5】
 
(省略)
(式(5)中、M1、M2、X1、X2、m及びnは前記と同じ)

【請求項10】
 
請求項1~6のいずれかに記載の高分子化合物を含有するフィルム。

【請求項11】
 
請求項1~6のいずれかに記載の高分子化合物を含有する成形体。
IPC(International Patent Classification)
F-term
Drawing

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JP2019534470thum.jpg
State of application right Published
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